技术编号:9723178
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。MOCVDCMetal Organic Chemical Vapor Deposit1n)设备,即金属有机物化学气相沉积设备,其在半导体产业尤其是在LED产业中具有不可替代性的作用,是特别关键的设备。该设备集计算流体力学、热力传导、系统集成控制、化合物生长等各学科于一体,是一种高科技、新技术高度集中的设备;是突破产业发展瓶颈,提高产业水平的战略性高技术半导体装备。M0CVD通过使含有Π族或m族元素的金属有机物源(M0)与含有VI族或V族元素的气体源在严格控...
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