技术编号：9724400
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。作为低温栗的用途之一，有如溅射装置那样的真空处理装置。在真空处理装置中，可以反复执行一种真空工艺。低温栗在这种装置中的主要作用是持续保持适合于真空工艺的真空度。低温栗用于在上一次工艺和下一次工艺之间的装置的临时待机期间将真空度恢复至运许开始该工艺的适当的水平。恢复真空度所需时间称作再生时间。再生时间越短，越能够提前开始下一次的工艺，因此装置的生产率会提高。因此，希望再生时间尽可能较短。只要加大低温栗的排气速度即可缩短再生时间。因此，作为一种方法通常提高低温...
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