技术编号：9726629
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明化学增幅型负型抗蚀剂组合物、光固化性干膜、制备方法、 图案化方法和电气/电子部件保护膜 本非临时申请在美国法典第35卷第119节（a)款下要求2014年10月1日于日 本提交的第2014-202890号的专利申请的优先权，所述专利申请的全部内容通过引用并入 本文。 本发明涉及包含带有机硅结构的聚合物的化学增幅型负型抗蚀剂组合物，该化 学增幅型负型抗蚀剂组合物可通过曝光于在具有小于500nm波长的近UV和深UV区的紫外 线辐照如i-线和g-线而进行图...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。