技术编号：9740954
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前国内所有的西门子法多晶硅生产企业都是采用的CVD化学沉淀还原炉，在多晶硅反应过程中，随着多晶硅颗粒的沉淀，也伴随着少量(约0.3%)HC1气体的产生，这是化学反应公式决定的，是不可避免的。为保证多晶硅产品质量和成本，又必须将反应气体中的HCl组分分离出来。还原尾气中含有的HCl必需经过精馏塔的精馏作用才能使HCl从氯硅烷液体中分离出来，由于其含量非常少，精馏塔的塔回流组分并不是纯净的HCl，而是含有HCl的氯硅烷混合物，所以其精馏出来的产物液体部分并不...
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