技术编号：9752712
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在液晶显示领域中，薄膜晶体管的有源层一直使用稳定性能、加工性能等优异的硅系材料，硅系材料主要分为非晶硅和多晶硅，其中非晶硅材料迀移率很低，而多晶硅材料虽然有较高的迀移率，但用其制造的器件均匀性较差，良率低，单价高。所以近年来，将透明氧化物半导体膜用于沟道形成区来制造薄膜晶体管(TFT)等，并应用于电子器件及光器件的技术受到广泛关注。其中，利用以铟、镓、锌、氧为构成元素的非晶质In-Ga-Zn-O系材料(a-1GZO)的场效应型晶体管因其具有较高迀移率，较大...
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