技术编号：9768912
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明制备结构化涂层的方法、用该方法制备的结构化涂层及其用途本发明涉及制备含硅和/或锗的结构化涂层的方法、可根据该方法得到的层及其用途。对于不同的应用而言，需要导体、半导体或绝缘的结构化涂层，例如对于二极管中的应用而言、用于背接触太阳能电池中的发射区和基极区或作为钢或玻璃上的阻隔。现有技术中已知用于制备结构化涂层的方法。例如，已存在基于光刻技术、湿法刻蚀方法和/或激光烧蚀的多种制备结构化表面的技术(P.Enge I har t等人，Pr ο g.Phot...
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