技术编号：9781337
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 随着科技的日益发展，对工件的精度和外观要求越来越高，研磨后超精密清洗是 十分必要的工序。传统的清洗方法采用的是有机溶剂单槽浸泡的清洗工艺，该工艺消耗大 量的化学试剂，清洗效率低，成本高，对人和环境不友好，大量低闪点有机溶剂的使用还会 有易燃易爆的安全隐患，不符合国家安全环保生产工艺要求，所W开发一种水性清洗剂替 代溶剂型清洗剂是每个精密元器件生产企业的必然方向。 一些国外企业目前已研发过一些水基清洗剂，如德国Zestron公司开发的MPC水基 清洗剂和化...
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