技术编号:9784241
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。真空加热装置是一种在真空环境下对高分子晶体等材料进行加热的设备,现有真空加热装置的结构简单,并且由于材料特性的原因,不可避免的会出现加热温度不可控、加热不均匀以及受热产生的气流挥发慢等问题,导致材料烧焦、烧糊,甚至粘连在坩祸底部,极大的影响了加热效果,降低了加热设备的工作效率和使用寿命。发明内容本发明的目的在于提供一种真空加热装置,以实现可控、精确和均匀的加热。本发明所述的真空加热装置,包括真空室、真空栗和至少一个炉体,所述炉体布置在真空室内,在炉体上布置...
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