一种用于真空环境下的光学元件水冷装置的制造方法技术资料下载

技术编号:9789810

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真空环境下,光学元件受到光源的辐射,温度会随之升高,在热应力的影响下导致其面形发生变化,从而严重影响光学系统的质量。真空环境下光学元件散热只能借助于冷却系统,作为光学元件的冷却装置,不但应具有较好的换热效率,而且还应具有较高的真空兼容性以及功能的可靠性。目前冷却装置主要分为水冷和风冷,相对而言,水冷的效果要比风冷更佳,因此广泛应用于大功率的光学元件冷却系统,而对于真空环境下的光学元件来说,通常采用的是水冷套的方法,通常在光学元件的支撑外围加上一个冷却水装置...
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