技术编号：9800404
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着科学技术的不断进步，光学向尺度的极端化发展，具有超光滑表面性质的光学元件被广泛应用于高精密产品和现代化的国防等重要领域，使得超光滑表面加工技术成为当今世界的研究热点。例如，极紫外光刻利用波长为13.5nm的极紫外光作为工作波长实现掩模图案的曝光复制，被半导体行业认为是用于极大规模集成电路制造的最具潜力的下开一代光刻技术。根据散射理论，由于超短的工作波长，光学元件极小的表面粗糙度都会引起光能的散射，从而降低成像对比度和系统产能。目前，典型的超光滑技术主要...
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