技术编号：9812289
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 光刻是半导体器件的制作过程中最常见的工艺之一。在光刻的步骤中，光源通过 光掩膜将电路图形复制到晶圆上的光刻胶层中。目前，主要的光掩膜类型有二元式光掩膜 和相移掩膜两种类型。其中，相移掩膜通常由石英基板，形成于石英基板上的相移层W及形 成于相移层上的不透光层（一般为館层）组成。在采用相移掩膜进行光刻时，相移层能够 使得照射到相移层上的光产生180度的相移，从而使得透过相邻透光区之间的光产生相位 差，进而发生相消干涉，由此改善了采用相移掩膜所形成图形的分辨率...
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