掩模板及其制作方法、使用方法以及包括该掩模板的设备的制造方法技术资料下载

技术编号:9843402

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本发明涉及显示设备的制作领域,尤其涉及掩模板及其制作方法、使用方法以及包括该掩模板的设备。背景技术在TFT-LCD制程中,紫外光遮板(UVMask,也被称为掩模板)主要用于在密封胶的光固化、有效显示区(Active Area)的边缘取向膜去除过程中,对液晶所在区域进行保护性遮挡(液晶是一种有机化合物,在强紫外线照射下会发生裂解,短时间照射会使其电阻率下降,长时间照射会使其颜色变黄,这将影响显示效果)。在现有技术中,通常根据显示面板的不同尺寸,制作相应尺寸的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

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