一种防止蚀刻机台做薄片工艺糊胶的蚀刻方法技术资料下载

技术编号:9845343

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Lam4520机台本身是针对正常厚度675um的晶片(wafer)设计的一种介质蚀刻机台,在做蚀刻工艺过程中,夹具(clamp)将晶片(wafer)固定在机台的卡盘(chuck)上,晶片(wafer)在蚀刻过程中将被等离子体加热,通过在晶片(wafer)背面设定12T压力的氦气气流(He flow)达到冷却的效果。但对于MEMS薄片工艺(300or 400um wafer),由于蚀刻的膜厚度比较厚(um级别),工艺时间比较长,而片子本身太薄,夹具(clam...
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