使用银浆料进行结合的方法技术资料下载

技术编号:9845358

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随着近来家电变得越来越大并具有越来越大的容量的趋势,对于具有高击穿电压、高电流和高速开关特性的功率半导体器件的需求日益增加。其中,碳化硅(SiC)半导体器件比现有的硅(Si)半导体器件具有更宽的带隙,因此即使在高温也具有稳定的半导体特性。然而,必须应用即使在高温也稳定的包装材料,以获得高温操作的效果。具体而言,目前用于结合半导体器件的焊料具有低于230°C的熔点,因而无法在最终运行碳化硅半导体器件的250°C的结合温度下使用。为替换目前的焊料,近来已经建议...
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