技术编号：9854521
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。化学机械性研磨是一边将被称为浆料的研磨液供给到研磨面上，一边通过使晶片与研磨面滑动接触而研磨晶片的表面的技术。研磨面通常由贴附在研磨工作台上的研磨垫的表面构成。在进行了晶片的研磨后，研磨肩或包含在研磨液中的磨粒等颗粒残留在研磨面上。因此，在晶片的研磨后，从研磨面清洗装置将雾状的清洗流体(液体、或者液体与气体的混合)喷雾到研磨垫的研磨面，清洗研磨面。这种研磨面清洗装置也被称为雾化器。现有技术文献专利文献专利文献1日本特开2014-111301号公报发明要解决...
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