技术编号：9859546
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。电子回旋共振(Electron cyclotron resonance，简称为ECR)等离子体派射装置，可实现将高密度的等离子体照射到基板上对表面进行加工，获得优异特性的薄膜。以往的ECR溅射装置中，成膜室的磁场模式可分为封闭式、发散式及会切式三种。会切式磁场中间磁场强度为零，不能将其单独用于薄膜的制备，必须与其它溅射方法相结合才能使用，因此几乎不被采用。在封闭式磁场中，等离子源的中部磁场弱，两侧磁场强，带电粒子在磁场分布的作用下被封闭在中央区域。将基板放...
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