技术编号：9859550
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。磁控溅射镀膜是工业镀膜生产中最主要的技术之一，与传统的镀膜方法相比，磁控溅射镀膜具有许多优点。例如，膜层和基体的附着力强;在大面积连续基板上可以制取均匀膜层;容易控制膜的成分，可以制取各种不同成分和配比的合金膜;可以进行反应溅射、制取多种化合物膜，可方便地镀制多层膜;便于工业化生产，易于实现连续化、自动化操作等。镀膜厂商普遍关心的问题是如何获得附着力强、致密性好以及均匀度高的膜层。在溅射过程中，真空室温度的高低，工艺气体压强的大小，靶面到基底的距离，溅射电...
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