技术编号:98694
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及利用光刻厚的光致抗蚀剂,并继而电化选择生产金属的技术来制造薄膜线条的工艺。 大家知道,以现有技术可得到高厚度(5-7微米)的薄膜线条。其最小宽度有40-50微米,宽度的公差是5-8微米。 当前,微波领域的趋势是在越来越高的频率(20-30GHZ),同时具有高的特性阻抗(200-300欧姆)和集总电路情况下采用薄膜线条。因而必须采用高厚度(5-7微米)的宽度约4-10微米,高分辨率的,并具有几乎是垂直的侧壁面,公差小到约1微米的薄膜线条。 大家也已知道,高分辨率的线条可以用真空溅射金的技术来...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。