技术编号：9889805
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着微电子技术的快速发展，电子元器件被制作得越来越小。在微纳米器件的加工技术中，通常采用高精度投影式光刻、电子束光刻等方法，然而应用此类方法的设备均非常昂贵，尤其是对于双台阶图形的制备，一般需要采用两次光刻和刻蚀工艺，增加了双台阶图形的制备成本，导致制备亚微米双台阶图形存在投入高、工艺复杂等问题，而且，随着近年来器件结构越来越复杂，复杂的工艺步骤和昂贵的制备成本较难满足时代的需求，需要简化工艺流程，降低制备成本，适应微纳米器件的快速发展。发明内容本发明所要...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。