技术编号：9902229
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。微米硅通孔具有尺寸小(微米级)、制备工艺简单、成本低廉且可大规模生产等优点，在纳米电子学、光学、热学、化学、生物传感器、生物检测等领域具有巨大的应用前景。传统的硅刻蚀方法主要分为干法刻蚀和湿法刻蚀两种。干法刻蚀主要是深反应离子刻蚀，由于其刻蚀侧壁粗糙度和刻蚀的重复循环，导致其刻蚀过程复杂且昂贵。湿法刻蚀主要是利用热碱溶液来刻蚀，刻蚀过程存在各向异性，因此很难得到想要尺寸的通孔。此外，由于碱溶液的离子问题不能进入超净间操作，并且影响器件的性能。近年来，金属催...
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