技术编号:9905248
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明阴极单元 本申请是申请日为2011年11月21日,名称为阴极单元,申请号为201180069851.6的申请的分案申请。本发明涉及一种利用溅射法的成膜装置内所使用的阴极单元。本申请在2011年4月26日提出的特愿2011 — 098427号的基础上要求优先权,并在此援引其内容。背景技术在半导体设备领域或平板显示器(FPD)领域中,作为形成各种薄膜的装置,使用溅射装置。—般的溅射装置中,在腔室内设置有溅射用的阴极,在减压的腔室内与安装在阴极的靶空开规...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。