技术编号：9910044
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明 相关申请的交叉引用 本非临时申请在35 U.S.C.§119(a)下要求分别于2014年12月8日和2015年4月6日 在日本提交的专利申请No. 2014-248080和2015-077690的优先权，由此通过引用将它们的 全部内容并入本文。 本发明涉及用于使抗蚀剂图案中的特征的尺寸收缩的收缩材料和使用该收缩材 料的图案形成方法。背景技术 随着减小图案尺度的努力迅速发展以满足近来对LSI的较高集成水平和运转速度 的需要，光刻法广泛使用。光刻法具...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。