技术编号:9913042
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。相比所产生的有益效果通过采用以上技术方案,通过去除由于抛光残留的蜡状抛光膏并且在氮化铝陶瓷基板表面通过化学浸渍接枝的方法形成复合的高活性过渡层。该方法具有以下优点为所用的活化液性质温和,对氮化铝陶瓷基板不存在腐蚀作用,特别是镜面抛光处理的氮化铝陶瓷基板;所形成的高浸润层从源头上改善当前氮化铝DPC基板孔洞率高、剥离强度低、抗热振性能差的问题;简化了氮化铝DPC基板的制备工艺。改性的活化过渡层制备方...
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