技术编号:9924385
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明等离子体处理装置 本申请是2013年03月12日提出的申请号为201310077535.4的同名申请的分案申请。本发明涉及对被处理基板实施等离子体处理的技术,特别涉及电感耦合型的等离子体处理装置。背景技术在半导体器件或FPD(Flat Panel Display平板显示器)的制造工艺中的蚀刻、沉积、氧化、溅射等处理中,为了使处理气体在比较低的温度下良好地进行反应,常利用等离子体。一直以来,在这种等离子体处理中,多使用由MHz区域的高频放电产生的等离...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。