技术编号：9927919
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在光学薄膜沉积精密扫描控制工艺研究领域，光学元件的锻膜质量对激光装置的 运行起着至关重要的作用。成膜质量的优劣很大程度上取决于薄膜蒸发稳定性的控制精 度。蒸发稳定性对薄膜质量造成的影响主要包括宏观和微观两个方面。宏观上主要影响蒸 发气氛分布（即膜厚均匀性）；Tooling值（即中屯、波长漂移）；膜厚控制精度（即膜系效果）。 综合反映为薄膜的光谱指标。微观方面主要影响薄膜微结构，如晶格缺失、空位、孔隙大小、 孔隙率、节瘤缺陷等。综合反映为薄膜的抗损伤阔值。...
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