技术编号:9928586
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。光刻机作为工业母机其相关技术一直引领芯片相关产业的发展。按照目前的行业态势,下一代光刻机将针对18inch直径的晶圆(450mm)开发相关技术,对作为运动控制不可或缺的测量技术提出了更高的要求运动部的运动规划范围至少达到米级、精度达到纳米甚至亚纳米、加速度不低于10g。在如此极端要求下,运动控制和材料性状等随时间变化情况的快速实时获取都将最终转化为对测量的要求,这对测量提出了更大的挑战,也是各国、相关企业时下暗中较劲争夺技术制高点的核心领域。当然,相关的应...
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