技术编号：9932030
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明金属构件及其表面加工方法、半导体装置及其制造方法、复合成型体相关申请的相互参照本公开基于2013年12月9日申请的日本申请号2013-254302号、2014年6月17日申请的日本申请号2014-123983号、2014年10月15日申请的日本申请号2014-210764号，将其记载内容援引于此。本公开涉及对成为在基材的表面上设有金属薄膜的构成的金属构件的表面进行粗糙化的表面加工方法、及利用该表面加工方法将表面进行粗糙化而得到的金属构件、半导体装置...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。