技术编号：9932351
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 薄膜沉积技术可用于在各种衬底上制造薄膜。先前，已采用诸如阳CVD或磁控瓣射 等真空技术制造了高性能膜。然而，大型或波状部件难W使用真空室进行涂覆。此外，真空 沉积工艺需要大量的资本投资W获取和装配真空室部件。发明内容 在第一方面中，提供一种制造多层梯度组成薄膜的方法。所述方法包括将至少一 种化学前体引入到等离子体中；沉积一定厚度的第一膜至衬底的表面，所述第一膜具有来 源于至少一种化学前体的化学组成;修改在沉积一定厚度的第一膜期间与沉积至少一种化 学前体相...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。