技术编号：9958116
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在电力半导体芯片生产过程中，许多工艺都要求对硅片进行腐蚀和清洗，采用的腐蚀液或清洗液常常是多种酸的混合液，具有很强的腐蚀性和挥发性，而且还常常用到许多化学试剂，其中有些具有毒性和强烈的刺激性气味，易对工作场所造成不良后果，影响操作人员的工作环境。工作时，大部分操作是在顶部和侧面分别设有排风出口和操作窗口的排风操作柜内进行，大部分的腐蚀性或刺激性气体通过排风出口由外部相接的排风风机、吸收塔吸收处理后排入大气。但是，现有技术的排风操作柜设计时为了操作方便，其操...
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