技术编号:9989195
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。传统的真空炉配合物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,在最近30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术,并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用,进而衍生到3C及电子产品。物理气相沉积(Physical Vapor Deposit1n, PVD)技术是在真空条件下,采用物理方法将材料源一一固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离...
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