专利名称：农作物种植斜坡的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种农作物种植斜坡，尤其是能够增加农作物实际种植面 积，有效改善田间小气候。
背景技术：
目前，公知的农作物种植技术是把农作物按照其规定的常规种植密度种植 在水平耕地面上，由于受到农作物种植密度和有限耕地面积的制约，农作物接受太阳光的照射程度和单位耕地面积上的农作物产量在进一歩的改善和提高上 存在着困难。发明内容为了克服农作物现有种植技术下透光性、透风性和耕地面积的不足，本实 用新型提供一种新的农作物种植技术，该种植技术不仅能够有效增加农作物的 种植面积，而且能够改善田间小气候。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是在水平耕地面上，建成 砖混结构的斜坡后墙和两个斜坡侧墙，形成斜坡框架，用土壤将斜坡框架填满， 形成斜坡平面，当地每年夏至时，太阳光垂直照射到斜坡平面上。人民在该斜 坡平面上种植农作物时，按照农作物规定的常规种植密度进行种植即可，因种 植平面呈斜坡状，农作物能够更多地接受到太阳光，并提高了透风性，从而有 效地改善了田间小气候；同时，农作物的实际种植面积比在水平耕地面上种植 时有一定比例的增加，达到了增产、增效的目的。本实用新型的有益效果是可以有效增加农作物实际种植面积，大大改善
田间小气候。
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。图l是本实用新型的正面视图。图2是本实用新型的纵面视图。图中1.斜坡后墙，2.斜坡平面，3.斜坡侧墙,4.水平耕地面,5.夏至时太阳光 照射方向，6.夹角a，7.夹角b具体实施方式
在图1和图2中，在水平耕地面(4)上，采用砖混结构建起垂直于水平耕 地面(4)的斜坡后墙(1)和两侧斜坡侧墙(3)，形成一个东西走向的斜坡框 架，并用土壤填满，斜坡平面(2)高度自北向南逐渐降低，并与水平耕地面(4) 形成夹角b (7)，每年夏至时，太阳光照射方向(5)与水平耕地面(4)形成夹 角a (6)，夹角a (6)与夹角b (7)的和为90°，即此时太阳光照射方向(5)垂 直与斜坡平面，从而建成了一个东西走向的斜坡平面(2)。
权利要求1、农作物种植斜坡，其本体是一个斜坡平面土体，其特征在于斜坡平面是实心的土体。
2、 根据权利要求1所述的农作物种植斜坡，其特征在于斜坡平面的高 度是自北向南逐渐降低的，并与水平耕地面形成一个夹角b。
3、 根据权利要求1所述的农作物种植斜坡，其特征在于斜坡平面是东 西走向的。
4、 根据权利要求1所述的农作物种植斜坡，其特征在于斜坡后墙与水 平耕地面是相互垂直的。
5、 根据权利要求1所述的农作物种植斜坡，其特征在于斜坡侧墙与水 平耕地面是相互垂直的。
专利摘要农作物种植斜坡，它在水平耕地面上，由斜坡后墙、两侧的侧墙和土壤建成的斜坡平面，每年夏至时，当地的太阳光垂直照射到斜坡平面上。人们在斜坡平面上按照农作物规定的常规种植密度种植，既增加了农作物实际的种植面积，又有效地改善了田间小气候，达到了增产增效的目的。
文档编号A01B79/00GK201045770SQ20062016725
公开日2008年4月16日 申请日期2006年12月3日 优先权日2006年12月3日
发明者刘风国 申请人:刘风国