专利名称：一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉的制作方法
技术领域：
本发明属化妆品领域，具体是一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉。
背景技术：
珍珠一直被公认为美容佳品，其美容机理是珍珠中含有各种人体所需的氨基酸和 微量元素，珍珠中含有的营养成分与人类肌肤所需养分接近，很容易被人体吸收，具有很好 的美容保健的效果。珍珠经加工后制备的珍珠粉是运用珍珠美容最普遍的一种方式。珍珠粉在化妆品中的应用受到很大的限制，因为珍珠粉中含有90%以上的碳酸 钙，碳酸钙是一种破乳剂，可以破坏化妆品的乳化体系；珍珠粉中含有二十多种微量元素， 直接添加到化妆品中会极大的增加化妆品的离子强度，破坏化妆品的乳化体系和悬浮体 系，降低产品的稳定性。以上原因限制了珍珠粉开放性在化妆品中的添加使用，影响了化妆 品与珍珠的结合发展，导致化妆品的美容营养性能难于取得突破性的进展，阻滞化妆品行 业的发展。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的不足而提供一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘 珍珠粉，通过对珍珠粉进行致密的二氧化硅包覆，不仅使珍珠粉中含有的碳酸钙和微量元 素将处于一个密闭的空间，还使其表面具有亲水性，可以直接添加到化妆品中，使珍珠粉在 美容方面的使用更为方便和广泛。本发明采用的包覆原理将硅酸钠和酸加入到分散好粉浆中，使硅以硅酸的形式 沉淀在粉体表面，其反应方程式如下Na2Si03+2H++ (n_l) H20 — Si02. n H20+2Na.将纳米级珍珠粉打浆使其充分分散，比表面积增大，当反应生成水合二氧化硅时 会吸附在纳米级珍珠粉表面，该反应最初生产的产物是Si (0H)4,由于Si (0H)4具有很大的 活性，在纳米级珍珠粉表面形成核点，并且迅速生成具有致密结构的硅聚合物，经陈化后最 终在纳米级珍珠粉表面生成一层连续的氧化硅表皮状固体膜，从而对纳米级珍珠粉进行包覆。本发明所采用的技术方案一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉，是将PEG-1000、复方珍珠粉、60g/L硅 酸钠溶液和10. 7%硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成，其 中按质量比计各组分的份数比例为PEG-10003. 5 --5
复方珍珠粉0. 8 --1. 5
60g/L硅酸钠溶液0. 8 ‘ 1. 5
10. 7%的硫酸0. 8 --1. 5
所述复方珍珠粉是将金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液混合后喷淋至粒径小于200纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成，其原料按重量百分 比计分别为金盏花提取液5 % 9 %、马齿苋提取液5 % 9 %、芦荟提取液5 % 9 %、甘 草提取液5 % 9 %，余量为纳米珍珠粉。一种上述致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉的制备方法，其步骤如下1、按配比取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液进行混合得 到混合液，取粒径小于200纳米的纳米珍珠粉铺成薄薄的一层，然后把混合液均勻喷淋在 纳米珍珠粉上，经烘干、粉碎得到复方珍珠粉。2、按配比取PEG-1000加入搅拌锅中，加热至45 50°C，加入复方珍珠粉，搅拌均 勻制成珍珠粉浆液；将珍珠粉浆液进行碾磨充分后加入搅拌锅中，加热至85°C 90°C，将 60g/L的硅酸钠溶液加入，搅拌均勻，再缓慢加入10. 7%的硫酸溶液，搅拌后降温至40°C以 下，放出料液，陈化45 50小时后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎得到致密二氧化硅包覆 的复方祛痘珍珠粉。本发明对复方珍珠粉进行致密的二氧化硅包覆，经电镜检测包覆后的粒子表面光 滑，界面清晰，说明包膜效果良好，为致密包膜；颗粒之间无絮状物，说明包膜完整。所得的 致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉可以广泛应用到化妆品中的乳剂和霜剂中，大大的拓 宽的珍珠粉在化妆品中的应用范围，使珍珠粉能够更好的在化妆品中发挥美容功效。为了解致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉在化妆品中的应用情况，以实验方式 对化妆品中添加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉后的稳定性进行检验，针对的化妆品 剂型包括乳剂和霜剂，检测项目包括添加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原 样品的PH值、粘度、耐寒稳定性和耐热稳定性。列表如下 其中1#样品为原样品。2#样品为添加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉的珍珠祛痘膏。最终实验结论如下1、pH值添加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的pH值无明 显变化；2、粘度添加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的粘度值无明 显变化；3、耐热稳定性加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的耐热稳 定性无明显变化；4、耐寒稳定性加致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的耐寒稳 定性无明显变化。实验结果显示致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉可以广泛运用到化妆品中的乳剂和霜剂中，对化妆品本身的PH值、粘度、耐寒稳定性和耐热稳定性无不良影响。本发明工艺简单，所提供的二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉包膜效果好，包膜完 整，颗粒之间无絮状物，可以广泛应用到化妆品中的乳剂和霜剂中，有利于促进化妆品与珍 珠、中药的结合发展，大大的拓宽的珍珠粉在化妆品中的应用范围。
具体实施例方式下面用非限定实施例对本发明作进一步说明。实施例一取粒径小于200纳米的珍珠粉50kg平铺成薄层，取金盏花提取液、马齿苋提取液、 芦荟提取液、甘草提取液各4kg，将提取液混勻后，喷淋至珍珠粉上，烘干并气流粉碎即得到 复方珍珠粉；取200kg的PEG-1000加入搅拌锅中，加热至45°C，加入复方珍珠粉，搅拌均勻制成 珍珠粉浆液；将珍珠粉浆液加入胶体磨碾磨充分，加入搅拌锅中，加热，使温度保持在86°C 之间，加入60g/L的硅酸钠溶液50kg，搅拌20分钟，缓慢加入10. 7%的硫酸50kg，搅拌40 分钟后降温至40°C以下，放出料液，陈化46小时后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎即得到 致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉。实施例二、取粒径小于200纳米珍珠粉38kg平铺成薄层，取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦 荟提取液、甘草提取液各3kg，将提取液混勻后，喷淋至珍珠粉上，烘干并气流粉碎即得到复 方祛痘珍珠粉；取175kg的PEG-1000加入搅拌锅中，加热至48°C，加入复方珍珠粉，搅拌均勻制成 珍珠粉浆液；将珍珠粉浆液加入胶体磨碾磨充分，加入搅拌锅中，加热，使温度保持在88°C 之间，加入60g/L的硅酸钠溶液40kg，搅拌20分钟，缓慢加入10. 7%的硫酸40kg，搅拌40 分钟后降温至40°C以下，放出料液，陈化48小时后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎即得到
致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉。
权利要求
一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉，其特征在于是将PEG-1000、复方珍珠粉、60g/L硅酸钠溶液和10.7％硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成，其中按质量比计各组分的份数比例为PEG-10003.5～5复方珍珠粉 0.8～1.560g/L硅酸钠溶液 0.8～1.510.7％的硫酸0.8～1.5所述复方珍珠粉是将金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液混合后喷淋至粒径小于200纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成，其原料按重量百分比计分别为金盏花提取液5％～9％、马齿苋提取液5％～9％、芦荟提取液5％～9％、甘草提取液5％～9％，余量为纳米珍珠粉。
2.—种权利要求1所述的致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉的制备方法，其特征在 于，其步骤如下1)、按配比取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液进行混合得到混 合液，取粒径小于200纳米的纳米珍珠粉铺成薄薄的一层，然后把混合液均勻喷淋在纳米 珍珠粉上，经烘干、粉碎得到复方珍珠粉；2)、按配比取PEG-1000加入搅拌锅中，加热至45 50°C，加入复方珍珠粉，搅拌均勻制 成珍珠粉浆液；将珍珠粉浆液进行碾磨充分后加入搅拌锅中，加热至85°C 90°C，将60g/L 的硅酸钠溶液加入，搅拌均勻，再缓慢加入10. 7%的硫酸溶液，搅拌后降温至40°C以下，放 出料液，陈化45 50小时后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎得到致密二氧化硅包覆的复方 祛痘珍珠粉。
全文摘要
本发明属化妆品领域，具体是一种致密二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉，是将PEG-1000、复方珍珠粉、硅酸钠溶液和硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成；所述复方珍珠粉是将中药提取液喷淋至粒径小于200纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成；所述中药提取液是金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液的混合液。本发明工艺简单，所提供的二氧化硅包覆的复方祛痘珍珠粉包膜效果好，包膜完整，颗粒之间无絮状物，可以广泛应用到化妆品中的乳剂和霜剂中，有利于促进化妆品与珍珠、中药的结合发展，大大的拓宽的珍珠粉在化妆品中的应用范围。
文档编号A61K8/97GK101874769SQ20101011393
公开日2010年11月3日 申请日期2010年1月21日 优先权日2010年1月21日
发明者周树立 申请人:海南京润珍珠生物技术股份有限公司