专利名称：一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡的制作方法
技术领域：
本实用新型专利涉及ー种口腔修复医疗器械制作时用的器材，即ー种制作全ロ义齿和局部义齿时采集颌记录用的型蜡。
技术背景目前，牙医在为患者采集全ロ或局部义齿颌记录前，均是在取得患者ロ腔的石膏模型上用蜡板和蜡片弯制成蜡基托和蜡堤，这样制作的颌记录蜡型既费时费力，又不能把患者的口腔生理信息记录准确，从而易使后期制作的义齿存在偏差，造成患者配戴不适，甚 至失败。
发明内容本实用新型的目的就在于克服上述现有技术中存在的不足，而提供一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，使用该型蜡可使临床采集颌记录操作简单，取得的颌记录信息准确全面，从而使后期制作的修复义齿更精确，配戴舒适而美观。如上构思，本实用新型的技术方案是一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在干由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是弓形结构。上述上颌基托型蜡和下颌基托型蜡咬合面ー侧为平面，另ー侧面为槽形。上述上颌蜡堤和下颌蜡堤均为前窄后宽的弓形结构。上述上颌蜡堤和下颌蜡堤的唇、颊侧和舌侧间具有多排横向贯通的孔。本实用新型具有如下的优点和积极效果I、由于将上颌基托型蜡和下颌基托型蜡预制成依据人类ロ腔解剖生理特点的弓形槽形态，在临床使用时牙科医生只需要稍加整理就能使其贴合在患者的口腔模型上，从而可取到患者颌位准确的颌记录。2、由于将上颌蜡堤和下颌蜡堤做成预制有多个横向贯通的孔的弓形结构，牙科医生在取得患者颌位高度时就不需要给蜡堤颌面局部加热，从而有更加充分的操作时间。3、使用本涉及牙科医生可轻松地取到患者颌间全面准确的颌记录，降低了牙科医生在采集患者颌记录环节的工作量，并使后期制作义齿更加精确，可提高义齿修复的成功率。
图I是本实用新型上颌基托型蜡的主视图。图2是本实用新型下颌基托型蜡的后视图。图3是上颌蜡堤的外形图。图4是上颌蜡堤的的唇、颊侧和舌侧间具有两排横向贯通的孔的示意图。图5是下颌蜡堤的外形图。[0017]图6是下颌蜡堤的唇、颊侧和舌侧间具有两排横向贯通的孔的示意图。
具体实施方式
一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡I、下颌基托型蜡2、上颌蜡堤3和下颌蜡堤4组成。如图1、2所示上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，咬合面ー侧为弓形平面，另ー侧面5为槽形。如图3、4所示上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构，并且上颌蜡堤和下颌蜡堤的唇、颊侧和舌侧间具有两排横向贯通的孔6。本实用新型的上颌基托型蜡和下颌基托型蜡，上颌蜡堤和下颌蜡堤均分为特大、大、中、小四种尺寸规格。本实用新型的使用方法I、安装总义齿颌记录医师在取得患者口腔印模后，取尺寸规格接近患者口腔石膏模型的型蜡基托，放入50°C左右的温水中，浸泡大约10秒钟后取出，放在石膏模型上捏 合整形，使之与患者口腔石膏模型充分贴合，然后把蜡堤与基托型蜡用电蜡刀焊接牢固，之后就按常规方法嘱患者咬合，即可得到患者的颌记录。2、安装局部义齿颌记录将患者口腔余留牙齿相应位置的基托和蜡堤用蜡刀去掉，其它步骤同实施例I制作方法。
权利要求1.一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在干由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是弓形结构。
2.根据权利要求I所述的ー种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于上述上颌基托型蜡和下颌基托型蜡咬合面ー侧为平面，另ー侧面为槽形。
3.根据权利要求I所述的ー种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于上述上颌蜡堤和下颌蜡堤均为前窄后宽的弓形结构。
4.根据权利要求I或3所述的ー种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于上述上颌蜡堤和下颌蜡堤的唇、颊侧和舌侧间具有多排横向贯通的孔。
专利摘要一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是弓形结构。使用该型蜡可使临床采集颌记录操作简单，取得的颌记录信息准确全面，从而使后期制作的修复义齿更精确，配戴舒适而美观。
文档编号A61C13/34GK202386814SQ20112037463
公开日2012年8月22日 申请日期2011年9月28日 优先权日2011年9月28日
发明者邢旭东 申请人:邢旭东