1.一种基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，包括敞口的壳体(7)，该壳体(7)的敞口处设置有盖板(6)，且盖板(6)的顶部设置有足部气压按摩装置(5)，其特征在于：所述壳体(7)内设置有用于按摩足底的滚珠按摩装置(4)、用于对足底进行光动力照射的光源系统(3)、以及用于控制滚珠按摩装置(4)和光源系统(3)的中央控制板(2)，其中，滚珠按摩装置(4)的按摩头穿过盖板(6)并延伸至足部气压按摩装置(5)内。
2.如权利要求1所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：所述光源系统(3)包括设置于中央控制板(2)上方且嵌套在滚珠按摩装置(4)外部的光源板，该光源板上设置有若干个按阵列排列的半导体窄光谱光源。
3.如权利要求2所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：所述盖板(6)开设有若干个光槽，且光槽与半导体窄光谱光源一一对应。
4.如权利要求2所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：所述半导体窄光谱光源的波长为615nm～640nm。
5.如权利要求1所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：还包括腿部气压按摩装置(8)、以及设置于壳体(7)内的气泵，所述腿部气压按摩装置(8)通过气管与气泵相连。
6.如权利要求5所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：所述腿部气压按摩装置(8)和气泵分别与中央控制板(2)电性连接。
7.如权利要求1所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：所述壳体(7)的底部设置有可调支脚装置(1)。
8.如权利要求7所述的基于光动力与气压按摩结合的足部理疗设备，其特征在于：所述可调支脚装置(1)位于足部气压按摩装置(5)足尖部的下方。