立式消毒柜的制作方法

文档序号:11435364阅读:486来源:国知局
立式消毒柜的制造方法与工艺

本实用新型涉及消毒柜,具体来说,涉及一种立式消毒柜。



背景技术:

目前市场上所有的立式消毒柜的上、下室第一次工作完后则消毒结束,如果消毒时间与餐具取用的时间较长,或是长时间没有开机对餐具进行消毒,特别是春季的潮湿天气,柜内的空间湿度增加,柜内比较潮湿容易滋生细菌或病毒,而餐具则有容易产生二次污染的风险和隐患,而且使用者不容易察觉餐具已经被二次污染,不能保证消毒柜的室内空间保持一种干爽的环境,也就不能保持餐具的洁净无菌效果,为了达到和保持餐具的此种效果及功能,则必须解决消毒柜室内空间的环境问题,而目前市场上的所有立式消毒柜不能解决此问题,也不具有此种功能。



技术实现要素:

本实用新型的目的旨在至少在一定程度上解决上述的技术问题之一,提供一种立式消毒柜,其可解决餐具因柜内环境潮湿而产生的二次污染问题。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案:立式消毒柜,包括:

柜体,形成具有上室和下室;

第一湿度探测头,安装于上室里面用于探测上室的湿度;

第二湿度探测头,安装于下室里面用于探测下室的湿度

控制装置,分别与所述第一湿度探测头和所述第二湿度探测头相连,当所述上室的湿度和/或所述下室的湿度大于设定相对湿度值时,所述控制装置将启动所述上室的消毒元件及加热元件和/或所述下室的消毒元件及加热元件工作至消毒完成,消毒完成后,所述立式消毒柜处于待机状态。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,所述设定相对湿度值为50%。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,所述控制装置是一带有芯片的电路板,在该芯片中设置有控制模块,由该控制模块接收第一湿度探测头和第二湿度探测头输入的湿度信号并且由该控制模块控制所述上室的消毒元件及加热元件和/或所述下室的消毒元件及加热元件工作。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,所述上室是具有前开口的上腔体,上室的消毒元件及加热元件设置在所述上腔体的后壁面上。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,所述下室是具有前开口的下腔体,下室的消毒元件及加热元件设置在所述下腔体的后壁面上。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,设置在下腔体里面的消毒元件为两个或多个。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,在所述上室里面设置有至少一个承物架。

于本实用新型的一个或多个实施例当中,在所述下室里面下上放置有两个或多个承物架。

本实用新型同背景技术相比所产生的有益效果:

立式消毒柜,由于采用了本实用新型的结构,当湿度探测头探测到所述上室的湿度和/或所述下室的湿度大于设定相对湿度值时,所述控制装置将启动所述上室的消毒元件及加热元件和/或所述下室的消毒元件及加热元件工作至消毒完成,如此循环检测及循环消毒以保持立式消毒柜内的干爽的环境,解决了餐具因柜内环境潮湿而产生的二次污染问题。

附图说明

图1为实施例中立式消毒柜的立体示意图;

图2为实施例中立式消毒柜的原理方框图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。

在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向” 、“纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。

此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本实用新型描述中,“至少”的含义是一个或一个以上,除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中,除另有明确规定和限定,如有术语“组装”、“相连”、“连接”术语应作广义去理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;也可以是机械连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。

在实用新型中,除非另有规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一特征在第二特征 “之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。

下面结合说明书的附图,通过对本实用新型的具体实施方式作进一步的描述,使本实用新型的技术方案及其有益效果更加清楚、明确。下面通过参考附图描述实施例是示例性的,旨在解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。

请参看图1和图2所示的,本实用新型提供一种立式消毒柜,其包括:

柜体1,形成具有上室100和下室200;

第一湿度探测头,安装于上室100里面用于探测上室100的湿度;

第二湿度探测头,安装于下室200里面用于探测下室200的湿度;

控制装置,分别与所述第一湿度探测头和所述第二湿度探测头相连,当所述上室100的湿度和/或所述下室200的湿度大于设定相对湿度值时,所述控制装置将启动所述上室100的消毒元件及加热元件和/或所述下室200的消毒元件及加热元件工作至消毒完成,消毒完成后,所述立式消毒柜处于待机状态。此后,如此循环检测及循环消毒以保持立式消毒柜内的干爽的环境,解决了餐具因柜内环境潮湿而产生的二次污染问题。

优选地,所述设定相对湿度值为50%。即若探测到上室100的湿度大于50%时,所述控制装置将启动所述上室100的消毒元件及加热元件工作至消毒完成,消毒完成后,所述立式消毒柜处于待机状态。

若探测到下室200的湿度大于50%时,所述控制装置将启动所述下室200的消毒元件及加热元件工作至消毒完成,消毒完成后,所述立式消毒柜处于待机状态。

若探测到上室100和下室200的湿度均大于50%时,所述控制装置将启动所述上室100的消毒元件及加热元件和所述下室200的消毒元件及加热元件工作至消毒完成,消毒完成后,所述立式消毒柜处于待机状态。

优选地,所述控制装置是一带有芯片的电路板,在该芯片中设置有控制模块,由该控制模块接收第一湿度探测头和第二湿度探测头输入的湿度信号并且由该控制模块控制所述上室100的消毒元件及加热元件和/或所述下室200的消毒元件及加热元件工作,其结构简单、紧凑,并且工作稳定、可靠,不会轻易出现问题。

优选地,所述上室100是具有前开口的上腔体,上室100的消毒元件2及加热元件设置在所述上腔体的后壁面上。当然,根据设计需要,上室100的消毒元件2及加热元件可以设置在所述上室100里面的任意位置上,在此不作限制。

优选地,所述下室200是具有前开口的下腔体,下室200的消毒元件2及加热元件设置在所述下腔体的后壁面上。当然,根据设计需要,下室200的消毒元件2及加热元件可以设置在所述下室200里面的任意位置上,在此不作限制。此外,设置在下腔体里面的消毒元件2为两个,其是沿上下设置的,以此可保证对大空间的下腔体进行有效的干燥以及消毒,避免餐具受到二次污染。

此外,在所述上室100里面设置有至少一个承物架3,在所述下室200里面下上放置有至少两个承物架3,以此便于餐具的放置,当然,也可以是放置其他用于承放餐具的物件,在此不作限制。

在说明书的描述中,参考术语“合一个实施例”、“优选地”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点,包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中,在本说明书中对于上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或者示例中以合适方式结合。

通过上述的结构和原理的描述,所属技术领域的技术人员应当理解,本实用新型不局限于上述的具体实施方式,在本实用新型基础上采用本领域公知技术的改进和替代均落在本实用新型的保护范围,应由各权利要求限定之。

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