一种苦黄净痘凝露的制作方法

文档序号:11674845阅读:831来源:国知局

本发明属于日化用品技术领域,具体涉及一种苦黄净痘凝露。



背景技术:

随着经济的发展,工作、生活节奏越来越快,精神压力越来越大,加上不良的生活习惯、恶劣环境、紫外线、不正确的皮肤护理等众多因素对皮肤的伤害,越来越多的人都被干燥、粗糙、肤色黯哑、满脸痘痘、粗糙、毛孔粗大等皮肤状况紊乱的综合问题困扰。

粉刺,俗称青春痘、痤疮,是由于皮脂腺管和毛囊孔堵塞导致皮脂分泌不畅,继而引发毛囊皮脂腺慢性感染的一种皮肤疾患。由毛囊皮脂腺口堵塞形成的粉刺,可发展为炎性丘疹、脓疱、结节、囊肿、粉瘤,形成色素沉着印、毛孔粗大、甚至疤痕等皮肤损害。

常发生于青年人的面颊部,影响面容。大多数人最为直接的治疗方法就是用手去挤,最终导致了粉刺加重,面部发炎、溃烂。粉刺破坏患者的外表,有损娇容,容易引起人的注目,常常影响他们的自信,使得在交友、择偶、择业和工作中容易受到影响。患者因此而感到巨大挫折感,甚至产生失落、悲观情绪,给他们的身心健康带来极大的伤害,给生活、工作、学习造成了不良的影响。

虽然市场上的护肤品虽然非常丰富,但面对这种综合性问题总不能够很好的解决,常常解决一方面的问题同时又加深了另外的问题。



技术实现要素:

为克服现有技术所存在的缺陷,本发明提供一种苦黄净痘凝露,能够解决上述技术问题。

本发明要解决其技术问题所采用的技术方案是:设计一种苦黄净痘凝露,所述的苦黄净痘凝露的主要原料包括水、丙二醇、丁二醇、碳酸二辛酯、白花蛇舌草提取物、忍冬提取物、丹参根提取物、小果皂荚籽提取物、丙烯酸钠/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物、异十六烷、聚山梨醇酯-80、辛酸/葵酸甘油三酯、生育酚乙酸酯、氢化卵磷脂、红没药醇、甘草根提取物、神经酰胺2、苦参根提取物、欧蒲公英根茎/根提取物、黄岑根提取物、忍冬花提取物、鲸蜡硬脂醇、硬脂醇聚醚-21、对羟基苯乙酮、1,2-乙二醇、丙烯酸类/c10-30烷醇丙烯酸酯交联聚合物、泛醇、尿囊素、柠檬酸、甘油、乙醇、peg-40氢化蓖麻油、季铵盐-73和氢氧化钠。

优选的,各原料的消耗量(质量份数)为:

优选的,各原料的消耗量(质量份数)为:

本发明所具有的有益效果是:

1、本发明包含苦参、黄岑、白花蛇舌草、忍冬、丹参等多种草本活性精华合肌肤修护成分,能够减轻痘痘皮损发生的程度,改善长痘造成的肌肤损伤。本产品不含香精和色素,适用于所有的肤质,尤其是适用于对长期长痘、出油、肌肤干燥、有痘痘困扰的肌肤。

具体实施方式

实施例一

一种苦黄净痘凝露,所述的苦黄净痘凝露的主要原料包括水、丙二醇、丁二醇、碳酸二辛酯、白花蛇舌草提取物、忍冬提取物、丹参根提取物、小果皂荚籽提取物、丙烯酸钠/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物、异十六烷、聚山梨醇酯-80、辛酸/葵酸甘油三酯、生育酚乙酸酯、氢化卵磷脂、红没药醇、甘草根提取物、神经酰胺2、苦参根提取物、欧蒲公英根茎/根提取物、黄岑根提取物、忍冬花提取物、鲸蜡硬脂醇、硬脂醇聚醚-21、对羟基苯乙酮、1,2-乙二醇、丙烯酸类/c10-30烷醇丙烯酸酯交联聚合物、泛醇、尿囊素、柠檬酸、甘油、乙醇、peg-40氢化蓖麻油、季铵盐-73和氢氧化钠。

各原料的消耗量(质量份数)为:

实施例二

一种苦黄净痘凝露,所述的苦黄净痘凝露的主要原料包括水、丙二醇、丁二醇、碳酸二辛酯、白花蛇舌草提取物、忍冬提取物、丹参根提取物、小果皂荚籽提取物、丙烯酸钠/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物、异十六烷、聚山梨醇酯-80、辛酸/葵酸甘油三酯、生育酚乙酸酯、氢化卵磷脂、红没药醇、甘草根提取物、神经酰胺2、苦参根提取物、欧蒲公英根茎/根提取物、黄岑根提取物、忍冬花提取物、鲸蜡硬脂醇、硬脂醇聚醚-21、对羟基苯乙酮、1,2-乙二醇、丙烯酸类/c10-30烷醇丙烯酸酯交联聚合物、泛醇、尿囊素、柠檬酸、甘油、乙醇、peg-40氢化蓖麻油、季铵盐-73和氢氧化钠。

各原料的消耗量(质量份数)为:

实施例三

一种苦黄净痘凝露,所述的苦黄净痘凝露的主要原料包括水、丙二醇、丁二醇、碳酸二辛酯、白花蛇舌草提取物、忍冬提取物、丹参根提取物、小果皂荚籽提取物、丙烯酸钠/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物、异十六烷、聚山梨醇酯-80、辛酸/葵酸甘油三酯、生育酚乙酸酯、氢化卵磷脂、红没药醇、甘草根提取物、神经酰胺2、苦参根提取物、欧蒲公英根茎/根提取物、黄岑根提取物、忍冬花提取物、鲸蜡硬脂醇、硬脂醇聚醚-21、对羟基苯乙酮、1,2-乙二醇、丙烯酸类/c10-30烷醇丙烯酸酯交联聚合物、泛醇、尿囊素、柠檬酸、甘油、乙醇、peg-40氢化蓖麻油、季铵盐-73和氢氧化钠。

各原料的消耗量(质量份数)为:

最后所应说明的是:以上实施例仅用以说明而非限制本发明的技术方案,尽管参照上述实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应该理解:依然可以对本发明进行修改或者等同替换,而不脱离本发明的精神和范围的任何修改或局部替换,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

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