牙颌取模托盘的制作方法

文档序号:16827686发布日期:2019-02-10 23:25阅读:1355来源:国知局
牙颌取模托盘的制作方法

本实用新型属于牙齿矫治领域,涉及一种托盘,具体涉及一种牙颌取模托盘。



背景技术:

托盘是承载印模材料在口腔内取得印模的一种工具。它的作用是盛装印模材料,支撑印模,减少印模变形,方便操作。按制作方法和材料可分为:1.成品托盘:①铝制托盘;②不锈钢托盘;③塑料托盘;④琼脂印模用托盘。2.个别托盘:指根据患者的具体情况而个别制作,用于取精密印模的托盘,又可分为:①塑料个别托盘;②蜡制个别托盘;③打样膏个别托盘。3.按取印模的范围分类:①局部托盘,又可分为A区、B区、C区、D区、牙前区等;②全部托盘,又可分为有牙颌托盘、无牙颌托盘,前者的托盘底为一平面,边缘伸展较长而深,后者托盘底呈椭圆形,边缘伸展较短。选择成品托盘时要尽量与患者个体的牙弓协调一致。托盘的大小宜全面覆盖取印模的对象物,并与牙弓内外侧有3-4mm间隙,这是印模材料比较适宜的厚度。同时,托盘不能妨碍口腔软组织(如系带)的正常功能运动,在系带部位要有切迹。为防止印模与托盘的分离,首先要保证托盘的干燥,然后采用下列方法:①在托盘内表面涂与印模材料相应的粘附层。不同种类的橡胶材料,其粘附层各不相同,彼此之间不能互换。②选用有孔托盘,或在托盘边缘绕贴一条胶布;③将上述两种方法合并使用。

因此,研究一种能够防止取牙模的过程中防止前牙区出现穿透硅橡胶的现象的托盘,具有重要的意义。



技术实现要素:

本实用新型要解决的技术问题,是提供一种牙颌取模托盘,采用托盘的前牙区较后牙区的深度更深的方式,能够有效的防止前牙区在印模的过程中穿透硅橡胶,导致取模不精确。

为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:

一种牙颌取模托盘,它包括托盘和设于托盘前牙端的手柄,所述的托盘分为非共平面的前牙区和后牙区,其中前牙区的深度大于后牙区的深度。

作为本实用新型的一种限定,所述的托盘靠近的牙冠颌面的区域还设有孔洞。

作为上述限定的进一步限定,所述的前牙区的孔洞较后牙区的孔洞直径小。

作为上述限定的另一种进一步限定,所述的托盘靠近牙冠的舌侧或唇侧端的区域还设有缝隙。

作为本实用新型的另一种限定,所述的托盘和手柄之间还设有加强嵴。

作为本实用新型的第三种限定,所述的托盘为符合牙列形状的“U”型结构。

本实用新型还有一种限定,所述的托盘为符合牙列形状的“U”型结构,并且,“U”型结构的开口端的中间为联通结构,且中间的联通结构为突起状,与腭侧面贴合。

由于采用了上述的技术方案,本实用新型与现有技术相比,所取得的技术进步在于:

本实用新型采用托盘的前牙区较后牙区的深度更深的方式,有的患者前牙较长或者倾斜度较大,本实用新型所提供的结构能够有效的防止前牙区在印模的过程中穿透硅橡胶,导致取模不精确。

本实用新型适用于牙颌的取模。

本实用新型下面将结合说明书附图与具体实施例作进一步详细说明。

附图说明

图1为本实用新型实施例1的结构示意图;

图2为图1的主视图;

图3为本实用新型实施例2的结构示意图;

图4为图3的主视图。

图中:1—托盘,2—手柄,3—前牙部,4—后牙部,5—缝隙,6—孔洞,7—加强嵴。

具体实施方式

实施例1 一种牙颌取模托盘

一种牙颌取模托盘,如图1和2所示,为上颌取模托盘,它包括托盘1和设于托盘1前牙端的手柄2,所述的托盘1分为非共平面的前牙区3和后牙区4,其中前牙区3的深度大于后牙区4的深度。其中,托盘1为符合牙列形状的“U”型结构,并且,“U”型结构的开口端的中间为联通结构,且中间的联通结构为突起状,与腭侧面贴合。

所述的托盘1靠近的牙冠颌面的区域还设有孔洞6,托盘1靠近牙冠的舌侧或唇侧端的区域还设有缝隙5,在取模的过程中能够使多余的硅橡胶流出,取出与牙冠面更加贴合的硅橡胶阴模,防止过多的硅橡胶取模后发生回流,导致取模不精准;前牙区3的孔洞6较后牙区4的孔洞6直径小,并且前牙区的孔洞较后牙区的更小,由于前牙区的牙齿较后牙区小,在咬合的过程中较大的孔洞防止硅橡胶过多的流出。

托盘1和手柄2之间还设有加强嵴7,能够加强两者之间的稳固性,防止在取模的过程中发生折断的现象。

在实际使用过程中,在牙颌取模托盘中注入医用取模硅橡胶,带入患者的牙齿上进行取模操作,患者的前牙区的深度大于后牙区的深度,能够有效的防止较长的前牙在取模的过程中穿透硅橡胶造成印模的缺损。

实施例2 一种牙颌取模托盘

实施例2与实施例1的结构相似,如图3和4所示,不同之处仅在于,实施例2为下颌取模托盘,托盘1为符合牙列形状的“U”型结构。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非是对本实用新型作其它形式的限定,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述技术内容作为启示加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是,凡是未脱离本实用新型技术构思,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作出的简单修改,等同变化与改型,仍属于本实用新型权利要求的保护范围。

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