一种特定电磁波谱治疗器的制造方法

文档序号:9047044阅读:327来源:国知局
一种特定电磁波谱治疗器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种特定电磁波谱治疗器。
【背景技术】
[0002]一般的治疗器通过加热进行辐射治疗。现有的加热方式为电炉盘加热,使用耐火材料制作成炉盘,再将绕成螺旋状的发热丝安装在耐材炉盘的凹槽内,以耐火涂料将电炉丝固定。
[0003]电炉盘加热有以下缺点:由于发热丝裸露在空气中,在工作时容易氧化,所以寿命较短;发热丝受到外力冲击时可能从凹槽内脱出,出现短路的危险;电炉盘通电工作时,发热丝侧面及背面发出的热量会被电炉盘吸收,需要一段较长的时间后炉盘温度才能逐渐达到热平衡,因此加热效率低;电炉盘较笨重,对支撑结构及底座的强度、重量要求较高。

【发明内容】

[0004]针对上述现有技术的不足之处,本实用新型提供一种特定电磁波谱治疗器。
[0005]为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
[0006]本实用新型所述一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:包括卤素管,所述卤素管正下方安装有反射罩,所述卤素管正上方安装有云母片,所述云母片的正上方安装有治疗板。
[0007]进一步地,所述卤素管通过Y型支架片安装在反射罩内底部。
[0008]再进一步地,所述云母片盖过卤素管,所述云母片上设有多个均匀分布的通孔。
[0009]更进一步地,所述治疗板扣压套装在反射罩开口上。
[0010]与现有技术相比,本实用新型的有益效果:
[0011]本实用新型所述一种特定电磁波谱治疗器,通过反射罩提高对卤素管背面及侧面的热量的利用率;利用多孔云母片对热量分布进行调整,使其更加均匀。该治疗器使用卤素管加热,发热快,发热效率高;寿命长;结构轻便,降低整体重量;隔绝发热丝,使用过程安全。
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型所述一种特定电磁波谱治疗器的结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
[0014]如图1所示,本实用新型所述一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:包括卤素管1,所述卤素管I正下方安装有反射罩6,所述卤素管I通过Y型支架片2安装在反射罩6内底部,所述卤素管I正上方安装有云母片3,所述云母片3盖过卤素管1,所述云母片3上设有多个均匀分布的通孔,所述云母片3的正上方安装有治疗板5,所述治疗板5扣压套装在反射罩6开口上。
[0015]本实用新型的安装过程,金属反光板(反射罩)6通过中心螺杆配合螺母安装在金属外壳7内,而中心螺杆则通过螺母固定安装在金属外壳7的内部中心处,再将卤素管支架片2用螺母固定在中心螺杆上,支架片2的末端向两侧隆起并设有U型置灯口且与原平面交拧成90度角,支架片2置灯口的底面压在反射罩6上,再将卤素管I安装在支架片2上,再用螺母配合中心螺杆安装上云母片3,云母片3压在支架片2置灯口的顶面上,最后装上治疗板5。其中,金属外壳7和金属反光板6的底部设有两个相邻的安装有陶瓷绝缘管4的通线孔用于穿接电源线,金属外壳7的底部外侧均匀装有三个瓷柱,瓷柱的另一端安装在绝缘板上。
[0016]本实用新型的使用过程,开始通电后,卤素管I发热,正面发出的热量直接作用在云母片3上,侧面及背后的热量由反射罩6反射至云母片3上,云母片3上的开孔使加热器正面的热量更加均匀地作用于治疗板5。
[0017]本实用新型所述一种特定电磁波谱治疗器,通过反射罩6提高对卤素管I背面及侧面的热量的利用率;利用多孔云母片3对热量分布进行调整,使其更加均匀。该治疗器使用卤素管I加热,发热快,发热效率高;寿命长;结构轻便,降低整体重量;隔绝发热丝,使用过程安全。
【主权项】
1.一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:包括卤素管,所述卤素管正下方安装有反射罩,所述卤素管正上方安装有云母片,所述云母片的正上方安装有治疗板。2.根据权利要求1所述一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:所述卤素管通过Y型支架片安装在反射罩内底部。3.根据权利要求1所述一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:所述云母片盖过卤素管,所述云母片上设有多个均匀分布的通孔。4.根据权利要求1或2所述一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:所述治疗板扣压套装在反射罩开口上。
【专利摘要】本实用新型公开了一种特定电磁波谱治疗器,其特征在于:包括卤素管,所述卤素管正下方安装有反射罩,所述卤素管正上方安装有云母片,所述云母片的正上方安装有治疗板。本实用新型所述一种特定电磁波谱治疗器,通过反射罩提高对卤素管背面及侧面的热量的利用率;利用多孔云母片对热量分布进行调整,使其更加均匀。该治疗器使用卤素管加热,发热快,发热效率高;寿命长;结构轻便,降低整体重量;隔绝发热丝,使用过程安全。
【IPC分类】A61N5/06
【公开号】CN204699263
【申请号】CN201520391971
【发明人】周江
【申请人】四川恒明科技开发有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年6月9日
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