专利名称：Tft-lcd玻璃基板用盘刷段水箱供液系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种TFT-LCD玻璃基板清洗程序中用到的盘刷段水箱供液系统， 尤其是一种保持盘刷段清洗剂浓度的水箱供液系统。
背景技术：
由于TFT-IXD显示器具有超薄、超轻等优异的性能，近几年得到了迅速的普及。为了获得更高的画面效果及产品质量，TFT-LCD显示器所用到的玻璃基板需要极高的洁净程度，这就对玻璃基板的清洗程序有很高的要求。盘刷段作为清洗设备中最重要的工段，对清洗质量影响相当大。由于盘刷刷洗能力强，与玻璃接触面积大，因此在该段加清洗剂能大幅度提高清洗机对玻璃表面污渍及颗粒的清洗效果。合适的清洗剂浓度对清洗质量有重要的影响。目前所用到的清洗剂多为强碱。图1为现有的盘刷段水箱供液系统，以强碱性清洗剂为例，运行过程中，浮球式液位传感器13对水位进行测量；热电偶18对盘刷水温进行实时测量；电导率仪12对清洗液进行浓度测量，清洗液供给控制阀7处于常开状态，水泵6将水箱中的水抽出经过过滤器5 供给清洗机2，清洗机2使用后的水经清洗液回流管道9流入水箱二次使用。虽然这是一个闭路循环系统，但是清洗液会逐渐消耗，液位会不断下降，当浮球式液位传感器13检测到液位已经到达低液位时，纯水补偿控制阀14打开，纯水经纯水补偿管道17流入水箱补水， 液位到达高液位时停止。此时清洗液由于纯水的稀释作用，碱液浓度迅速降低，碱液补偿控制阀11打开，碱液经碱液补偿管道8向水箱内补偿碱液，循环泵四不间断工作，电导率仪 12实时监测清洗液浓度变化，浓度到达设定值时停止补液。直到下一次清洗液液位到达低液位重复此过程。在补偿纯水与补偿碱液的过程中，清洗机清洗液浓度达不到工艺设定标准，造成这个时间范围内玻璃清洗不良，降低了良品率，若设定较高的浓度则提高了生产成本且容易造成清洗剂残留。
实用新型内容本实用新型的目的是针对上述情况，提供一种TFT-LCD玻璃基板用盘刷段水箱供液系统。为实现上述目的，本专利采用的技术方案如下一种TFT-IXD玻璃基板用盘刷段水箱供液系统，包括一号水箱27，二号水箱15，监测水箱内清洗液液位、碱液浓度及温度的监测系统，控制水箱进行纯水补偿和碱液补偿的控制系统3，将纯水从水站输送到水箱、使清洗液在水箱和清洗机2间输送、将碱液从碱液存储箱1输送到水箱的执行系统，所述执行系统包括管路和控制管路开闭的控制阀。作为优选方式，所述监测系统包括插入水箱的电导率仪12、浮球式液位传感器 13、热电偶18 ；所述控制系统3包括电气控制系统，与电气控制系统相连的控制气动阀开闭的气动阀控制元件；[0009]所述执行系统包括①连接水箱和清洗机的清洗液供给管道4及清洗液回流管道9，所述清洗液供给管道4具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有一号水箱清洗液供给控制阀23，和二号水箱连接的分支设有二号水箱清洗液供给控制阀对，所述两个分支和清洗机之间的管道上设有水泵6和过滤器5，所述清洗液回流管道9具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有清洗液回流一号水箱控制阀20，和二号水箱连接的分支设有清洗液回流二号水箱控制阀 22，②连接水站和两个水箱的纯水补偿管道17，所述纯水补偿管道17具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有纯水供给一号水箱控制阀21，和二号水箱连接的分支设有纯水供给二号水箱控制阀26，③连接碱液存储箱1和两个水箱的碱液补偿管道8，所述碱液补偿管道8具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有碱液补偿一号水箱控制阀19，和二号水箱连接的分支设有碱液补偿二号水箱控制阀25 ；所述热电偶18、浮球式液位传感器13、电导率仪12、水泵6、循环泵四通过导线与气动阀控制元件及电气控制系统相连。本实用新型的工作原理为通过在现有供液系统基础上增设一组水箱，当清洗液 16消耗至低液位时，气动阀控制元件与电气控制系统立即将水箱切换为另一组供液；被切换的水箱进行纯水补偿与碱液补偿程序，程序完成后待机。另一组水箱清洗液被消耗至低液位时气动阀控制元件与电气控制系统将水箱切换为上一次被切换的水箱进行纯水补偿与碱液补偿程序，这样不断的循环。本实用新型的工作过程清洗机2正常运行时，假定一号水箱27为当前正在使用的水箱，则一号水箱清洗液供给控制阀^常开；二号水箱清洗液供给控制阀M常闭；清洗液回流一号水箱控制阀20常开；清洗液回流二号水箱控制阀22常闭。水泵6将清洗液 16抽出，经过滤器5过滤，进入清洗机清洗玻璃。清洗机使用后的水经清洗液回流管道9及清洗液回流一号水箱控制阀20，回流至一号水箱27，经过长时间的运行，清洗液会不断的消耗，水箱内的水位不断下降，当浮球式液位传感器13监测到液位达到低液位时，一号水箱清洗液供给控制阀^关闭，二号水箱清洗液供给控制阀M打开；清洗液回流一号水箱控制阀20关闭，清洗液回流二号水箱控制阀打开，盘刷段供给清洗液水箱由一号水箱27切换为二号水箱15。同时纯水供给一号水箱控制阀21打开，纯水补偿管道17内的纯水补入一号水箱27，当浮球式液位传感器13监测到液位达到高液位时，纯水供给一号水箱控制阀21 关闭，水箱停止补水。碱液补偿一号水箱控制阀19打开，碱液补偿系统1的碱液经碱液补偿管道8补入一号水箱27。循环泵四持续运转，通过循环泵管道观使水箱内清洗液浓度保持均勻。当清洗液浓度达到设定要求时，碱液补偿一号水箱控制阀19关闭，完成了清洗液补偿工作。当二号水箱15内的清洗液消耗至浮球式液位传感器的低液位时，二号水箱清洗液供给控制阀M关闭，一号水箱清洗液供给控制阀^打开；清洗液回流二号水箱控制阀 22关闭，清洗液回流一号水箱控制阀20打开，盘刷段供给碱液水箱由二号水箱15切换为一号水箱27。同时纯水供给二号水箱控制阀沈打开，纯水补偿管道17内的纯水补入二号水箱15.当浮球式液位传感器13监测到液位已经达到高液位时，纯水供给二号水箱控制阀 26关闭，水箱停止补水。碱液补偿二号水箱控制阀25打开，碱液补偿系统1的碱液经碱液补偿管道8补入二号水箱15。循环泵四持续运转，使水箱内碱液保持均勻。当碱液浓度达
4到设定要求时，碱液补偿二号水箱控制阀25关闭。完成了水箱切换与清洗液补偿程序。二号水箱15待机，当一号水箱27的浮球式液位传感器监测到清洗液达到低液位时重复一号水箱27与二号水箱15的切换及清洗液补偿过程。如此往复。本实用新型的有益效果本实用新型使两组水箱交替工作，当一组水箱补偿纯水时，另一组水箱迅速接替供液，避免了由于补偿纯水这段时间清洗液浓度下降对盘刷段清洗效果的影响，提高了生产效率。
图1为现有的盘刷段水箱供液系统示意图。图2为本实用新型的结构示意图。图3为本实用新型切换条件下的工作状态图。其中，1为碱液储存箱，2为清洗机，3为控制系统。4为清洗液供给管道。5为过滤器，6为水泵，7为清洗液供给控制阀，8为碱液补偿管道，9为清洗液回流管道，10为清洗液回流控制阀，11为碱液补偿控制阀，12为电导率仪，13为浮球式液位传感器 ，14为纯水补偿控制阀，15为二号水箱，16为清洗液，17为纯水补偿管道，18为热电偶，19为碱液补偿一号水箱控制阀，20为清洗液回流一号水箱控制阀，21为纯水供给一号水箱控制阀，22为清洗液回流二号水箱控制阀二3为一号水箱清洗液供给控制阀二4为二号水箱清洗液供给控制阀，25为碱液补偿二号水箱控制阀，沈为纯水供给二号水箱控制阀，27为一号水箱，观为循环泵管道，W为循环泵。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步的说明。如图2、图3所示，一种TFT-IXD玻璃基板用盘刷段水箱供液系统，包括一号水箱 27，二号水箱15，监测水箱内清洗液液位、碱液浓度、温度、及电导率的监测系统，控制水箱进行纯水补偿和碱液补偿的控制系统3，将纯水从水站输送到水箱、使清洗液在水箱和清洗机2间输送、将碱液从碱液存储箱1输送到水箱的执行系统，所述执行系统包括管路和控制管路开闭的控制阀。所述监测系统包括插入水箱的电导率仪12、浮球式液位传感器13、热电偶18，所述控制系统3包括电气控制系统，与电气控制系统相连的控制气动阀开闭的气动阀控制元件；所述执行系统包括①连接水箱和清洗机的清洗液供给管道4及清洗液回流管道 9，所述清洗液供给管道4具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有一号水箱清洗液供给控制阀23，和二号水箱连接的分支设有二号水箱清洗液供给控制阀对，所述两个分支和清洗机之间的管道上设有水泵6和过滤器5，所述清洗液回流管道9具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有清洗液回流一号水箱控制阀20，和二号水箱连接的分支设有清洗液回流二号水箱控制阀22， ②连接水站和两个水箱的纯水补偿管道17，所述纯水补偿管道17具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有纯水供给一号水箱控制阀21，和二号水箱连接的分支设有纯水供给二号水箱控制阀26，③连接碱液存储箱1和两个水箱的碱液补偿管道8，所述碱液补偿管道8具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有碱液补偿一号水箱控制阀19，和二号水箱连接的分支设有碱液补偿二号水箱控制阀25 ；所述热电偶18、浮球式液位传感器13、电导率仪12、水泵6、循环泵四通过导线与气动阀控制元件及电气控制系统相连。本实用新型的工作原理为通过在现有供液系统基础上增设一组水箱，当清洗液消耗至低液位时，气动阀控制元件与电气控制系统立即将水箱切换为另一组供液；被切换的水箱进行纯水补偿与碱液补偿程序，程序完成后待机。另一组水箱清洗液被消耗至低液位时气动阀控制元件与电气控制系统将水箱切换为上一次被切换的水箱进行纯水补偿与碱液补偿程序，这样不断的循环。本实用新型的工作过程清洗机2正常运行时，假定一号水箱27为当前正在使用的水箱，则一号水箱清洗液供给控制阀^常开；二号水箱清洗液供给控制阀M常闭；清洗液回流一号水箱控制阀20常开；清洗液回流二号水箱控制阀22常闭。水泵6将清洗液 16抽出，经过滤器5过滤，进入清洗机清洗玻璃。清洗机使用后的水经清洗液回流管道9及清洗液回流一号水箱控制阀20，回流至一号水箱27，经过长时间的运行，清洗液会不断的消耗，水箱内的水位不断下降，当浮球式液位传感器13监测到液位达到低液位时，一号水箱清洗液供给控制阀^关闭，二号水箱清洗液供给控制阀M打开；清洗液回流一号水箱控制阀20关闭，清洗液回流二号水箱控制阀打开，盘刷段供给清洗液水箱由一号水箱27切换为二号水箱15。同时纯水供给一号水箱控制阀21打开，纯水补偿管道17内的纯水补入一号水箱27，当浮球式液位传感器13监测到液位达到高液位时，纯水供给一号水箱控制阀21 关闭，水箱停止补水。碱液补偿一号水箱控制阀19打开，碱液补偿系统1的碱液经碱液补偿管道8补入一号水箱27。循环泵四持续运转，水箱内清洗液浓度保持均勻。当清洗液浓度达到设定要求时，碱液补偿一号水箱控制阀19关闭，完成了清洗液补偿工作。当二号水箱15内的清洗液消耗至浮球式液位传感器的低液位时，二号水箱清洗液供给控制阀M关闭，一号水箱清洗液供给控制阀23打开；清洗液回流二号水箱控制阀22关闭，清洗液回流一号水箱控制阀20打开，盘刷段供给碱液水箱由二号水箱15切换为一号水箱27。同时纯水供给二号水箱控制阀26打开，纯水补偿管道17内的纯水补入二号水箱15.当浮球式液位传感器13监测到液位已经达到高液位时，纯水供给二号水箱控制阀沈关闭，水箱停止补水。碱液补偿二号水箱控制阀25打开，碱液补偿系统1的碱液经碱液补偿管道8补入二号水箱15。循环泵四持续运转，使水箱内碱液保持均勻。当碱液浓度达到设定要求时，碱液补偿二号水箱控制阀25关闭。完成了水箱切换与清洗液补偿程序。二号水箱15待机，当一号水箱27的浮球式液位传感器监测到清洗液达到低液位时重复一号水箱27与二号水箱 15的切换及清洗液补偿过程。如此往复。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种TFT-IXD玻璃基板用盘刷段水箱供液系统，其特征在于包括一号水箱(27)，二号水箱(15)，监测水箱内液位、碱液浓度及温度的监测系统，控制水箱进行纯水补偿和碱液补偿的控制系统(3)，将纯水从水站输送到水箱、使清洗液在水箱和清洗机(2)间输送、将碱液从碱液存储箱(1)输送到水箱的执行系统，所述执行系统包括管路和控制管路开闭的控制阀。
2.如权利要求1所述的TFT-LCD玻璃基板用盘刷段水箱供液系统，其特征在于 所述监测系统包括插入水箱的电导率仪(12)、浮球式液位传感器(13)、热电偶(18)， 所述控制系统(3)包括电气控制系统，与电气控制系统相连的控制气动阀开闭的气动阀控制元件；所述执行系统包括①连接水箱和清洗机的清洗液供给管道(4)及清洗液回流管道 (9)，所述清洗液供给管道(4)具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有一号水箱清洗液供给控制阀(23)，和二号水箱连接的分支设有二号水箱清洗液供给控制阀(24)，所述两个分支和清洗机之间的管道上设有水泵(6 )和过滤器(5 )，所述清洗液回流管道(9)具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有清洗液回流一号水箱控制阀(20)，和二号水箱连接的分支设有清洗液回流二号水箱控制阀(22)，②连接水站和两个水箱的纯水补偿管道(17)，所述纯水补偿管道(17)具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和二号水箱连接的分支设有纯水供给一号水箱控制阀(2)，和二号水箱连接的分支设有纯水供给二号水箱控制阀(26)，③连接碱液存储箱(1)和两个水箱的碱液补偿管道(8)，所述碱液补偿管道(8)具有分别和一号水箱、二号水箱连接的两个分支，和一号水箱连接的分支设有碱液补偿一号水箱控制阀(19)，和二号水箱连接的分支设有碱液补偿二号水箱控制阀(25)；所述热电偶(18)、浮球式液位传感器(13)、电导率仪(12)、水泵(6)、循环泵(29)通过导线与气动阀控制元件及电气控制系统相连。
专利摘要本实用新型公开了一种TFT-LCD玻璃基板用盘刷段水箱供液系统，包括一号水箱，二号水箱，监测水箱内清洗液液位的监测系统，控制水箱进行纯水补偿和碱液补偿的控制系统，将纯水从水站输送到水箱、使清洗液在水箱和清洗机间输送、将碱液从碱液存储箱输送到水箱的执行系统，所述执行系统包括管路和控制管路开闭的控制阀；本实用新型使两组水箱交替工作，当一组水箱补偿纯水时，另一组水箱迅速接替供液，避免了由于补偿纯水这段时间清洗液浓度下降对盘刷段清洗效果的影响，提高了生产效率。
文档编号B08B11/04GK202219256SQ20112030957
公开日2012年5月16日 申请日期2011年8月24日 优先权日2011年8月24日
发明者李兆廷, 祖光周, 魏小波 申请人:东旭集团有限公司, 成都中光电科技有限公司