专利名称：一种双层烤盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及陶瓷烤盘，尤其涉及一种双层烤盘。
背景技术：
烤盘是日常厨房用具之一，人们常将生的食物放在烤盘上，置于烤炉内进行烘烤。现有技术的烤盘多为单层结构，不能同时盛放不同的食物进入烤炉内烘烤，无法满足人们的不同需求。
发明内容本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种双层烤盘，具有独立的双层烤盘结构，可根据需要使用单层或双层，结构简单，使用方便，不占用摆放空间，利于推广应用。为实现以上目的，本实用新型采用以下技术方案:一种双层烤盘，包括盘体和盘盖，盘体具有把手，盘体分为上烤盘和下烤盘，上下烤盘内腔的直径相同。所述下烤盘内腔靠近盘口处具有一凸沿；上烤盘内腔设有若干凹槽。所述上下烤盘内腔的直径相同，盘盖可随意搭配上烤盘或下烤盘。进一步的，所述下烤盘内腔靠近盘口处具有一凸沿，可根据实际需要采用单层或双层形式，采用双层形式时，上烤盘能稳固地叠在下烤盘上，上下两盘共用盘盖，可同时容纳不同的食物，方便实用；不使用时，也可重叠放置，不占用空间。所述上烤盘内腔设有若干凹槽，用来隔开不同的食物。采用以上技术方案，本实用新型具有以下有益效果:具有独立的双层烤盘结构，根据实际需要采用单层或双层烤盘置于烤炉中使用，结构简单，使用方便，不占用摆放空间，利于推广应用。
图1为本实用新型结构示意图；图2为本实用新型盘体俯视图。
具体实施方式
如图1和图2所示，本实用新型一种双层烤盘，包括盘体(I)和盘盖(2)，盘体(I)具有把手(3 )，盘体(I)分为上烤盘(4 )和下烤盘(5 )，上下烤盘内腔的直径相同。所述下烤盘(5)内腔靠近盘口处具有一凸沿(6);上烤盘(4)内腔分为若干凹槽(7)。所述上下烤盘内腔的直径相同，盘盖(2)可随意搭配上烤盘或下烤盘。进一步的，所述下烤盘内腔靠近盘口处具有一凸沿(6)，可根据实际需要采用单层或双层形式，采用双层形式时，上烤盘(4)能稳固地叠在下烤盘(5)上，上下两盘共用盘盖(2 )，可同时容纳不同的食物，方便实用；不使用时，也可重叠放置，不占用空间。
所述上烤盘(4)内腔设有若干凹槽(7)，用来隔开不同的食物。
权利要求1..一种双层烤盘，包括盘体(I)和盘盖(2)，盘体(I)具有把手(3)，其特征在于，盘体(I)分为上烤盘(4 )和下烤盘(5 )，上下烤盘内腔的直径相同。
2.根据权利要求1所述的双层烤盘，其特征在于，下烤盘(5)内腔靠近盘口处具有一凸沿(6)。
3.根据权利要求1所述的双层烤盘，其特征在于，上烤盘(4)内腔设有若干凹槽(7)。
专利摘要本实用新型公开一种双层烤盘，包括盘体和盘盖，盘体具有把手，盘体分为上烤盘和下烤盘，上下烤盘内腔的直径相同。所述下烤盘内腔靠近盘口处具有一凸沿；上烤盘内腔分为若干凹槽。本实用新型具有独立的双层烤盘结构，可根据需要使用单层或双层，结构简单，使用方便，不占用摆放空间，利于推广应用。
文档编号A47J37/01GK203000598SQ20122062255
公开日2013年6月19日 申请日期2012年11月22日 优先权日2012年11月22日
发明者何四妹 申请人:何四妹