一种棉纱染色的浸染装置的制作方法

1.本实用新型属于棉纱生产设备技术领域，尤其涉及一种棉纱染色的浸染装置。


背景技术：

2.染色即侵染颜色，也称上色。为实现棉纱颜色的多样，需要使用不同的颜色对纱线进行染色。
3.实践中发现，现有的侵染装置中，大多其结构较为简单，虽基本都能够实现对棉纱线的侵染操作，但大多装置中的转动辊的位置固定，每次染液的液位都需要高过转动辊，导致无法根据棉纱线和染液的量去调节转动辊的位置，且当棉纱线在染色过程中卡住容易被扯断。
4.基于现有技术中存在的不足，本实用新型公开了一种棉纱染色的浸染装置，通过设置第一下压机构、第二下压机构，从而能够根据染液的高度进行对下压辊的高度调节，从而使下压辊上的棉纱线始终处于染液内，通过设置缓冲机构，当棉纱线在染色过程中卡住时，通过缓冲机构的缓冲能够一定程度上降低棉纱线在染色过程中受力不均匀而被拉扯损坏的概率。


技术实现要素：

5.针对现有技术不足，本实用新型的目的在于提供一种棉纱染色的浸染装置。
6.本实用新型提供如下技术方案：
7.一种棉纱染色的浸染装置，包括底板，所述底板的上端面中部设置有箱体，所述箱体内部左侧设置有染色室，所述箱体内部右侧设置有烘烤室，所述染色室内设置有第一下压机构、第二下压机构，所述染色室内位于所述第一下压机构、第二下压机构之间设置有缓冲机构，所述缓冲机构的下端设置有第三导向辊，所述第三导向辊上设置有环形导向槽。
8.优选的，所述箱体的左侧面上端设置有进线口，所述箱体的左侧面外侧位于所述进线口处设置有第一导向辊，所述箱体的左侧面内侧位于所述进线口处设置有第二导向辊。所述第一导向辊、第二导向辊的结构与所述第三导向辊的结构相同。
9.优选的，所述第一下压机构包括伸缩缸，所述伸缩缸呈竖直向下设置，所述伸缩缸的下端活塞杆端设置有下压辊，所述下压辊的轴线方向呈前后设置。
10.优选的，所述第二下压机构的结构与所述第一下压机构的结构相同。
11.优选的，所述缓冲机构包括缓冲座，所述缓冲座内设置有缓冲腔，所述缓冲腔内设置有可上下滑动的缓冲滑块，所述缓冲滑块的下端竖直设置有缓冲杆，所述缓冲杆的下端与所述第三导向辊连接。
12.优选的，所述缓冲杆位于所述缓冲腔内的部分套接有缓冲弹簧。
13.优选的，所述染色室、烘烤室之间设置有挡板，所述挡板的上端设置有第一出线口，所述挡板的左侧面上端位于所述第一出线口处设置有第四导向辊。所述第四导向辊的结构与所述第三导向辊的结构相同。
14.优选的，所述烘烤室的右侧面上端设置有第二出线口，所述箱体的右侧面上端位于所述第二出线口处设置有第五导向辊。所述第五导向辊的结构与所述第三导向辊的结构相同。
15.优选的，所述烘烤室内部上端均匀设置有多个烘烤管，所述烘烤室的中部设置有斜板，所述斜板的低端与所述挡板连接，所述挡板位于所述斜板低端处设置有回流口。
16.优选的，所述烘烤室内部右侧位于所述第二出线口处设置有挤压组件，所述挤压组件包括上挤压辊、下挤压辊，所述上挤压辊的两端通过第二缓冲机构与所述箱体上端面连接，所述第二缓冲机构包括第二缓冲座，所述第二缓冲座内设置有第二缓冲腔，所述第二缓冲腔内设置有可上下滑动的第二缓冲滑块，所述第二缓冲滑块的下端竖直设置有第二缓冲杆，所述第二缓冲杆的下端与所述上挤压辊连接，所述第二缓冲滑块的上端设置有第二缓冲弹簧。
17.与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
18.本实用新型一种棉纱染色的浸染装置，通过设置第一下压机构、第二下压机构，从而能够根据染液的高度进行对下压辊的高度调节，从而使下压辊上的棉纱线始终处于染液内，通过设置缓冲机构，当棉纱线在染色过程中卡住时，通过缓冲机构的缓冲能够一定程度上降低棉纱线在染色过程中受力不均匀而被拉扯损坏的概率。
附图说明
19.为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
20.图1为本实用新型的结构示意图。
21.图2为本实用新型的俯视示意图。
22.图3为本实用新型的图1的a处局部放大示意图。
23.图4为本实用新型的缓冲机构结构示意图。
24.图5为本实用新型的第三导向辊结构示意图。
25.图中：1、底板；2、箱体；3、染色室；4、烘烤室；5、进线口；6、第一导向辊；7、第二导向辊；8、环形导向槽；9、第一下压机构；91、伸缩缸；92、下压辊；10、第二下压机构；11、缓冲座；12、缓冲腔；13、缓冲滑块；14、缓冲杆；15、第三导向辊；16、缓冲弹簧；17、第一出线口；18、第四导向辊；19、烘烤管；20、斜板；21、回流口；22、上挤压辊；23、下挤压辊；24、第二缓冲座；25、第二缓冲腔；26、第二缓冲滑块；27、第二缓冲杆；28、第二缓冲弹簧；29、第二出线口；30、第五导向辊；31、棉纱线；32、进料口；33、出料口。
具体实施方式
26.为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有
其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。
27.因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。
28.请参阅图1-5所示，一种棉纱染色的浸染装置，包括底板1，所述底板1的上端面中部设置有箱体2，所述箱体2内部左侧设置有染色室3，所述箱体2内部右侧设置有烘烤室4，所述染色室3内设置有第一下压机构9、第二下压机构10，所述染色室3内位于所述第一下压机构9、第二下压机构10之间设置有缓冲机构，所述缓冲机构的下端设置有第三导向辊15，所述第三导向辊15上设置有环形导向槽8。
29.所述环形导向槽8设置有多个，多个所述环形导向槽8与所述第三导向辊同轴心设置，且多个所述环形导向槽沿所述第三导向辊轴线方向等间隔均匀设置。通过该设置，能够保证了同时实现对多条棉纱线染色，且能够一定程度上保证每个棉纱线均在对应的环形导向槽内，防止多个棉纱线出现交叉、打结情况。
30.通过设置第一下压机构、第二下压机构，从而能够根据染液的高度进行对下压辊的高度调节，从而使下压辊上的棉纱线始终处于染液内，通过设置缓冲机构，当棉纱线在染色过程中卡住时，通过缓冲机构的缓冲能够一定程度上降低棉纱线在染色过程中受力不均匀而被拉扯损坏的概率，同时缓冲机构还能够使棉纱线31保持一定的松紧度。
31.所述箱体的前端面设置有箱门，所述箱门与所述箱体密封连接。
32.所述箱体2的左侧面上端设置有进线口5，所述箱体1的左侧面外侧位于所述进线口5处设置有第一导向辊6，所述箱体的左侧面内侧位于所述进线口5处设置有第二导向辊7。所述第一导向辊6、第二导向辊7的结构与所述第三导向辊15的结构相同。所述第一导向辊6、第二导向辊7的两端均通过轴承与u型连接座连接，所述u型连接座与所述箱体左侧面连接。
33.所述第一下压机构9包括伸缩缸91，所述伸缩缸91呈竖直向下设置，所述伸缩缸91的下端活塞杆端设置有下压辊92，所述下压辊92的轴线方向呈前后设置。所述活塞杆的下端设置有倒u型连接座，所述下压辊92的两端通过轴承与所述u型连接座连接。
34.所述第二下压机构10的结构与所述第一下压机构9的结构相同。
35.所述缓冲机构包括缓冲座11，所述缓冲座11内设置有缓冲腔12，所述缓冲腔12内设置有可上下滑动的缓冲滑块13，所述缓冲滑块13的下端竖直设置有缓冲杆14，所述缓冲杆14的下端与所述第三导向辊15连接。所述缓冲杆14的下端设置有倒u型连接座，所述第三导向辊15的两端通过轴承与该处u型连接座连接。
36.所述缓冲杆14位于所述缓冲腔12内的部分套接有缓冲弹簧16。
37.所述染色室3、烘烤室4之间设置有挡板，所述挡板的上端设置有第一出线口17，所述挡板的左侧面上端位于所述第一出线口17处设置有第四导向辊18。所述第四导向辊18的结构与所述第三导向辊15的结构相同。所述第四导向辊18的的轴线方向沿所述箱体的前后方向设置。
38.所述烘烤室4的右侧面上端设置有第二出线口29，所述箱体2的右侧面上端位于所述第二出线口29处设置有第五导向辊30。所述第五导向辊30的结构与所述第三导向辊15的
结构相同。所述第五导向辊的的轴线方向沿所述箱体的前后方向设置。
39.所述烘烤室4内部上端均匀设置有多个烘烤管19，所述烘烤室4的中部设置有斜板20，所述斜板20的低端与所述挡板连接，所述挡板位于所述斜板20低端处设置有回流口21。用于回收染液，使染液经回流口流到染色室内。
40.所述烘烤室4内部右侧位于所述第二出线口29处设置有挤压组件，所述挤压组件包括上挤压辊22、下挤压辊23，所述上挤压辊22的两端通过第二缓冲机构与所述箱体1上端面连接，所述第二缓冲机构包括第二缓冲座24，所述第二缓冲座内设置有第二缓冲腔25，所述第二缓冲腔内设置有可上下滑动的第二缓冲滑块26，所述第二缓冲滑块的下端竖直设置有第二缓冲杆27，所述第二缓冲杆27的下端与所述上挤压辊22连接，所述第二缓冲滑块26的上端设置有第二缓冲弹簧28。通过上挤压辊22、下挤压辊23之间的配合，能够挤压出棉纱线上多余染料。
41.以上所述，仅为本实用新型的优选实施方式而已，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。