专利名称：新型阻漏瓦的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及的是一种建筑物顶部使用的瓦。
目前的建筑用瓦形式很多，如传统盖、沟瓦相分离形式的小青瓦，以及近期发展起来的盖、沟相连的S形瓦、波状瓦及其它形式的异型瓦。但它们在使用时各相邻瓦间都要采用以边缘相互重叠的搭接方式联接，尤其是上下两瓦之间都是上瓦的下缘搭接于下瓦的上缘之上。无论瓦自身的材质是否有吸水性或渗水性，在相互搭接的两瓦搭缝处多少都会有毛细现象产生。经观察发现，雨较大时，这种毛细作用会导致雨水翻过搭缝并积累后滴入室内而造成漏雨。
本实用新型的目的正是为解决这个问题而提供一种通过阻断上述毛细过程而达到防止漏雨的建筑用瓦。
本实用新型的瓦采取了在瓦背面至少一条侧边的边缘附近至少设置有一条与该边缘方向走向一致的内凹形沟槽的结构形式。由于沟槽设于瓦背面，因此在使用状态下该沟槽是槽底处于最高点的倒扣状，雨水沿瓦间搭缝毛细作用行至此处，毛细通路即被阻断。即使瓦材质本身具有吸水或渗水性可使水沿沟槽侧壁继续上“爬”也大大减慢了速度，且行至最高点的槽底部时因积聚和重力作用也会滴落于搭缝处的下瓦上流走，有效地防止了雨水翻越下瓦边缘滴入室内的漏雨现象发生。基于这个原理，瓦背面的这种阻漏沟槽如能沿瓦各条边缘设置最好，至少建议应在瓦的下侧边缘附近处设置。
下面介绍一个本实用新型的实例。但本实用新型的范围并不限于下述的实例。
图1 本实用新型瓦的背面结构形式图2
图1的A－A视图。
由图可见，本例中的瓦1是一种盖、沟相连形式的单S状瓦，在其背面的下侧边缘附近设置了一条与下缘方向一致的内凹阻漏沟槽2。使用时该沟槽2呈倒扣状搭接于相邻下瓦的上侧缘上面。除此种形式外，如能在瓦背面的左右两侧边缘处也设有此种阻漏沟槽，阻漏效果将会更好。
权利要求1.一种建筑用瓦，其特征在于至少在瓦背面的一侧边缘附近设置有一条与该边缘走向一致的内凹形沟槽(2)。
2.如权利要求1所述的瓦，其特征在于所说的沟槽(2)设置在瓦背面的下侧边缘附近。
专利摘要本实用新型是一种可阻漏的建筑用瓦，通过在瓦背面的边缘附近设置了与该边缘走向一致的内凹形阻漏沟槽，可有效地阻止雨大时瓦间接缝处漏雨的现象发生。
文档编号E04D1/30GK2084956SQ91214100
公开日1991年9月18日 申请日期1991年1月30日 优先权日1991年1月30日
发明者沈维娟, 周晓峰, 周维彦, 罗金琼 申请人:四川省建筑科学研究院