烹饪设备的制作方法

文档序号:24857520发布日期:2021-04-30 09:22阅读:94来源:国知局
烹饪设备的制作方法

本实用新型涉及厨房家电领域,具体而言,涉及一种烹饪设备。



背景技术:

随着人们生活水平不断提高,家用电器也越来越智能化,例如在厨房电器中,健康蒸制烹饪电器越来越普遍。

但是,现有的蒸制电器中,主要通过蒸汽发生器向蒸制电器内胆输送蒸汽对食材进行蒸制,这样就会使原本溶解在水中的该镁离子会析出,形成水垢沉淀结粘在蒸汽发生器内壁上,长久会影响整机的蒸制烹饪性能,造成整机水路堵塞、水质变差、烹饪时间变长和烹饪效果差等问题。

现有主要通过除垢剂进行除垢,除垢剂的主要成分为柠檬酸,使用柠檬酸除垢会对蒸汽发生器等电器元件有一定的腐蚀性,会破坏蒸汽烹饪电器的整机性能。



技术实现要素:

本实用新型的主要目的在于提供一种烹饪设备,以解决现有技术中的蒸制电器中容易产生水垢的问题。

为了实现上述目的,本实用新型提供了一种烹饪设备,包括机体,机体内具有安装腔;蒸汽发生器,安装在安装腔内,蒸汽发生器与机体的烹饪腔室连通;电磁部件,安装在安装腔内,电磁部件的至少部分环绕蒸汽发生器设置,以在蒸汽发生器的周围产生磁场;电压调节部件,与电磁部件连接,以通过电压调节部件调节电磁部件内的电压。

进一步地,电压调节部件为电子除垢仪。

进一步地,蒸汽发生器具有蒸汽发生腔,电磁部件环绕蒸汽发生腔设置。

进一步地,电磁部件为导通线圈。

进一步地,导通线圈包括相互连接的第一段导通线圈和第二段导通线圈,第一段导通线圈和第二段导通线圈分别设置在蒸汽发生腔的两端。

进一步地,烹饪设备还包括:进水管,与蒸汽发生腔连通;第一控制阀,安装在进水管上,以通过第一控制阀控制进水管的通断。

进一步地,烹饪设备还包括:排水管,与蒸汽发生腔连通;第二控制阀,安装在排水管上,以通过第二控制阀控制排水管的通断。

进一步地,安装腔的底面上设置有定位部,电压调节部件安装在定位部内。

进一步地,定位部为定位槽,电压调节部件卡接在定位槽内。

进一步地,烹饪设备还包括:控制主板,安装在安装腔内,电压调节部件和蒸汽发生器均与控制主板连接。

应用本实用新型的技术方案,烹饪设备,包括机体、蒸汽发生器、电磁部件和电压调节部件,机体内具有安装腔;蒸汽发生器安装在安装腔内,蒸汽发生器与机体的烹饪腔室连通;电磁部件安装在安装腔内,电磁部件的至少部分环绕蒸汽发生器设置,以在蒸汽发生器的周围产生磁场;电压调节部件与电磁部件连接,以通过电压调节部件调节电磁部件内的电压。这样设置能够利用在蒸汽发生器的周围产生磁场,以破坏水分子结构,避免在蒸汽发生器内产生水垢,提高了烹饪设备使用寿命,也避免了在烹饪腔室内产生水垢,且上述设置的结构简单便于实施,不会破坏烹饪设备中的其他部件,解决了烹饪设备中容易产生水垢的问题。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1示出了根据本实用新型的烹饪设备的实施例的结构示意图。

其中,上述附图包括以下附图标记:

1、机体;10、安装腔;2、蒸汽发生器;3、电磁部件;4、电压调节部件;20、蒸汽发生腔;31、第一段导通线圈;32、第二段导通线圈;5、进水管;6、排水管;11、定位部;7、控制主板。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

本实用新型提供了一种烹饪设备,请参考图1,包括机体1,机体1内具有安装腔10;蒸汽发生器2,安装在安装腔10内,蒸汽发生器2与机体1的烹饪腔室连通;电磁部件3,安装在安装腔10内,电磁部件3的至少部分环绕蒸汽发生器2设置,以在蒸汽发生器2的周围产生磁场;电压调节部件4,与电磁部件3连接,以通过电压调节部件4调节电磁部件3内的电压。

根据本实用新型提供的烹饪设备,包括机体1、蒸汽发生器2、电磁部件3和电压调节部件4,机体1内具有安装腔10;蒸汽发生器2安装在安装腔10内,蒸汽发生器2与机体1的烹饪腔室连通;电磁部件3安装在安装腔10内,电磁部件3的至少部分环绕蒸汽发生器2设置,以在蒸汽发生器2的周围产生磁场;电压调节部件4与电磁部件3连接,以通过电压调节部件4调节电磁部件3内的电压。这样设置能够利用在蒸汽发生器2的周围产生磁场,以破坏水分子结构,避免在蒸汽发生器2内产生水垢,提高了烹饪设备使用寿命,也避免了在烹饪腔室内产生水垢,且上述设置的结构简单便于实施,不会破坏烹饪设备中的其他部件,解决了烹饪设备中容易产生水垢的问题。

在这里需要说明的是,本实用新型提供的烹饪设备的工作原理为:电磁部件3通电之后,产生高频电信号,使蒸汽发生器2的周围包围磁场,磁场对蒸汽发生器中的水的偶极分子发生定向极化作用后,电子云发生变化,造成水分子中氢键的弯曲和局部断裂,使水中单个水分子数量增加,呈自由化的水分子占据了水体中的全部空间间隙,这一现象的存在有效地抑制水体中结垢物质的晶体形成;还有就是在洛伦兹力的直接作用下,水合离子带电质点做反向运动,在该过程中,正负离子或结垢质点相互碰撞形成一定数量的“离子缔合体”,其具有足够的稳定性存在于水中,从而在一定程度上避免在金属受热面上形成水垢。

优选地,电压调节部件4为电子除垢仪。在这里需要说明的是,电子除垢仪即电子水处理器,是通过高频电磁场、高压静电或低压电场的作用,使溶解在水中的正负离子(垢分子)被水分包围,通过磁场、电场作用,降低离子间引力,减少有效碰撞次数,使带电离子结晶习性发生改变,不易发生化学反应。在本实用新型提供的实施例中,利用电子除垢仪直接与电磁部件3连接,能够通过电子除垢仪调节电磁部件3中的电压,以调节蒸汽发生器2周围的磁场。

在具体实施的过程中,蒸汽发生器2具有蒸汽发生腔20,电磁部件3环绕蒸汽发生腔20设置。这样以使蒸汽发生腔20内的水源被电磁场包围。

在本实用新型提供的实施例中,电磁部件3为导通线圈。利用导通线圈能方便将导通线圈缠绕在蒸汽发生器的周围,便于安装且成本低廉。

具体地,导通线圈包括相互连接的第一段导通线圈31和第二段导通线圈32,第一段导通线圈31和第二段导通线圈32分别设置在蒸汽发生腔20的两端。这样设置能够保证蒸汽发生腔20被包围在磁场中,以对各个位置的水分子进行处理。

在具体实施时,烹饪设备还包括:进水管5,与蒸汽发生腔20连通;第一控制阀,安装在进水管5上,以通过第一控制阀控制进水管5的通断。这样设置以便于对蒸汽发生腔20内的水量进行控制,以优化蒸汽发生腔20的蒸汽发生效果。

烹饪设备还包括:排水管6,与蒸汽发生腔20连通;第二控制阀,安装在排水管6上,以通过第二控制阀控制排水管6的通断。在烹饪完成后,控制第二控制阀开启,将蒸汽发生腔20内剩余的水通过排水管6排出至指定位置,使蒸汽发生器处于干洁状态。

在本实用新型提供的实施例中,安装腔10的底面上设置有定位部11,电压调节部件4安装在定位部11内。这样设置能够便于安装电压调节部件4,以对电压调节部件4进行定位。

优选地,定位部11为定位槽,电压调节部件4卡接在定位槽内。通过卡接的方式便于电压调节部件4的安装与拆卸,结构简单且便于实施。

进一步地,烹饪设备还包括:控制主板7,安装在安装腔10内,电压调节部件4和蒸汽发生器2均与控制主板7连接。控制主板7即为控制烹饪设备运行模式的控制主板,当烹饪设备开始烹饪时,同时对电磁部件3通电,控制电压调节部件4工作,对蒸汽发生器内的水分子进行磁化处理。

从以上的描述中,可以看出,本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果:

根据本实用新型提供的烹饪设备,包括机体1、蒸汽发生器2、电磁部件3和电压调节部件4,机体1内具有安装腔10;蒸汽发生器2安装在安装腔10内,蒸汽发生器2与机体1的烹饪腔室连通;电磁部件3安装在安装腔10内,电磁部件3的至少部分环绕蒸汽发生器2设置,以在蒸汽发生器2的周围产生磁场;电压调节部件4与电磁部件3连接,以通过电压调节部件4调节电磁部件3内的电压。这样设置能够利用在蒸汽发生器2的周围产生磁场,以破坏水分子结构,避免在蒸汽发生器2内产生水垢,提高了烹饪设备使用寿命,也避免了在烹饪腔室内产生水垢,且上述设置的结构简单便于实施,不会破坏烹饪设备中的其他部件,解决了烹饪设备中容易产生水垢的问题。

需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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