清洁单元组件及应用该清洁单元组件的表面清洁装置的制作方法

1.本技术涉及清洁技术领域，特别是涉及一种清洁单元组件及应用该清洁单元组件的表面清洁装置。


背景技术：

2.表面清洁装置是一种可以提供清洁功能的家用电器，例如擦窗机器人、扫地机器人等自移动表面清洁装置；或者，需要用户拖动或手持的非自移动表面清洁装置。表面清洁装置的底部通常设有清洁单元支架，在清洁单元支架的底部清洁单元(抹布、海绵或擦拭纸等擦拭件)。当表面清洁装置在待清洁表面移动，或者清洁单元支架自身转动时，通过清洁单元擦拭待清洁表面，实现对待清洁表面的清洁。
3.但是，现有技术中的清洁单元支架通常采用坚硬的塑料注塑成型，由于注塑成型工艺的缺陷，清洁单元支架可能会存在变形、不平整等问题，导致清洁效果较差。另外，当清洁单元支架需要兼具密封的功能时，如果清洁单元支架存在变形、不平整等问题，还会导致清洁单元支架与待清洁表面之间密封空间的气密性较差，导致表面清洁装置的功耗增大，噪音增大等。


技术实现要素：

4.本技术实施例中提供了一种清洁单元组件及应用该清洁单元组件的表面清洁装置，以利于解决现有技术中由于注塑成型工艺的缺陷，导致抹布支架可能会存在变形、不平整的问题。
5.第一方面，本技术实施例提供了一种清洁单元组件，包括：
6.第一支架层；
7.第二支架层，所述第二支架层连接在所述第一支架层靠近待清洁表面的一侧，所述第一支架层的硬度大于所述第二支架层。
8.在一种可能的实现方式中，所述第二支架层为橡胶材质。
9.在一种可能的实现方式中，所述第二支架层为tpr材质或nbr材质。
10.在一种可能的实现方式中，所述第二支架层经过氯化处理。
11.在一种可能的实现方式中，所述第一支架层为塑料材质。
12.在一种可能的实现方式中，所述第一支架层为abs材质、玻璃纤维增强abs材质或pc材质。
13.在一种可能的实现方式中，所述第二支架层通过二次成型包裹在所述第一支架层靠近所述待清洁表面的一侧。
14.在一种可能的实现方式中，所述清洁单元组件还包括：
15.清洁件，所述清洁件以可拆卸连接的方式连接在所述第二支架层靠近所述待清洁表面的一侧。
16.在一种可能的实现方式中，所述第二支架层靠近所述待清洁表面的一侧设置有粘
接层，所述清洁件通过所述粘接层与所述第二支架层连接。
17.第二方面，本技术实施例提供了一种表面清洁装置，包括第一方面任一项所述的清洁单元组件，所述清洁单元组件与所述待清洁表面之间界定出密封空间；
18.所述表面清洁装置还包括真空单元，所述真空单元用于抽取所述密封空间内的空气，使得所述密封空间内产生负压，将所述表面清洁装置吸附在所述待清洁表面。
19.在本技术实施例中，通过第二支架层弥补第一支架层由于注塑成型工艺而导致的变形或不平整等缺陷，使得清洁单元组件与待清洁表面的接触面更平整，进而可以提高对待清洁表面的清洁效果。当清洁单元组件兼具密封功能时，该清洁单元组件还可以提高对密封空间的密封效果，降低表面清洁装置的功耗和噪音。
附图说明
20.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
21.图1为本技术实施例提供的一种表面清洁装置的结构示意图；
22.图2为图1所示表面清洁装置的行走示意图；
23.图3为本技术实施例提供的另一种表面清洁装置的结构示意图；
24.图4为本技术实施例提供的一种表面清洁装置的立体结构示意图；
25.图5为本技术实施例提供的另一种表面清洁装置的立体结构示意图；
26.图6为本技术实施例提供的一种清洁单元组件的立体结构示意图；
27.图7为图6所示清洁单元组件的截面图；
28.图8为本技术实施例提供的一种第一支架层的立体结构示意图；
29.图9为本技术实施例提供的一种第二支架层的立体结构示意图。
30.图中的符号表示为：100-表面清洁装置，110-第一主机，120-第二主机，130-连杆臂，131-第一枢轴，132-第二枢轴，200-表面清洁装置，210-主机，220-凹腔，230-行走单元，300-表面清洁装置，310-外壳，320-清洁单元组件，321-第一支架层，322-第二支架层。
具体实施方式
31.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
32.表面清洁装置是一种可以提供清洁功能的家用电器，例如擦窗机器人、扫地机器人等自移动表面清洁装置；或者，需要用户拖动或手持的非自移动表面清洁装置。
33.需要指出的是，本技术实施例对表面清洁装置的产品形态不作限制。为了便于理解，下面结合两种不同的产品形态，对表面清洁装置的工作原理进行简单介绍。
34.参见图1，为本技术实施例提供的一种表面清洁装置的结构示意图。如图1所示，该表面清洁装置100包括：第一主机110，第一主机110用于与待清洁表面之间界定出第一密封
空间，当第一密封空间内产生负压时，可以将第一主机110吸附在待清洁表面；第二主机120，第二主机120用于与待清洁表面之间界定出第二密封空间，当第二密封空间内产生负压时，可以将第二主机120吸附在待清洁表面；连杆臂130，连杆臂130的第一端与第一主机110通过第一枢轴131连接，连杆臂130的第二端与第二主机120通过第二枢轴132连接；驱动单元，用于驱动第一主机110绕第一枢轴131转动，进而使得第一主机110相对第二主机120转动；以及驱动第二主机120绕第二枢轴132转动，进而使得第二主机120相对第一主机110转动。其中，表面清洁装置100上还设有真空单元(风机或泵模组等，图中未示出)，通过真空单元可以在第一密封空间和第二密封空间内产生负压。
35.参见图2，为图1所示表面清洁装置的行走示意图。如图2所示，在初始位置时，第一主机110位于位置p1，第二主机120位于位置p2；控制第二主机120固定不动，第一主机110相对第二主机120沿方向t1转动，第一主机110到达位置p3；控制第一主机110固定不动，第二主机120相对第一主机110沿方向t2转动，第二主机120到达位置p4。依次类推，第一主机110和第二主机120交替行走，实现表面清洁装置100在待清洁表面的行走。
36.另外，在第一主机110和第二主机120的底部(靠近待清洁表面的一侧)还设有清洁单元支架(图中未示出)，在清洁单元支架上设有清洁单元(抹布、海绵或擦拭纸等擦拭件)，当表面清洁装置100在待清洁表面行走，或者第一主机110和第二主机120相对待清洁表面转动时，可以通过第一主机110和二主机底部的清洁单元对待清洁表面进行擦拭，实现对待清洁表面的清洁。
37.具体实现中，第一主机110底部的清洁单元支架和清洁单元环绕第一密封空间设置，第二主机120部的清洁单元支架和清洁单元环绕第二密封空间设置。可理解，在该实现方式中，清洁单元支架和清洁单元还兼具密封的功能，避免第一密封空间和第二密封空间漏气。
38.参见图3，为本技术实施例提供的另一种表面清洁装置的结构示意图。如图3所示，该表面清洁装置200包括主机210，主机210的底部(靠近待清洁表面的一侧)设有凹腔220，该空腔220用于与待清洁表面界定出一密封空间，当该密封空间内产生负压时，将表面清洁装置200吸附在待清洁表面。其中，表面清洁装置200上还设有真空单元(风机或泵模组等，图中未示出)，通过真空单元可以在密封空间内产生负压。
39.主机210的底部还设有行走单元230，该行走单元230用于驱动该表面清洁装置200在待清洁表面行走。具体地，该行走单元230可以为轮式行走单元或履带式行走单元等。可理解，主机210上还应当设有与行走单元230相配合的驱动单元，通过驱动单元可以驱动行走单元230工作，以便驱动表面清洁装置200在待清洁表面行走。
40.另外，在主机210的底部还设有清洁单元支架(图中未示出)，在清洁单元支架上设有清洁单元(抹布、海绵或擦拭纸等擦拭件)，当表面清洁装置200在待清洁表面行走时，可以通过主机210底部的清洁单元对待清洁表面进行擦拭，实现对待清洁表面的清洁。
41.具体实现中，主机210底部的清洁单元支架和清洁单元环绕密封空间设置。可理解，在该实现方式中，清洁单元支架和清洁单元还兼具密封的功能，避免密封空间漏气。
42.但是，现有技术中的清洁单元支架通常采用坚硬的塑料注塑成型，由于注塑成型工艺的缺陷，清洁单元支架可能会存在变形、不平整等问题，导致清洁效果较差。另外，当清洁单元支架需要兼具密封的功能时，如果清洁单元支架存在变形、不平整等问题，还会导致
清洁单元支架与待清洁表面之间密封空间的气密性较差，导致表面清洁装置的功耗增大，噪音增大等。
43.针对上述问题，本技术实施例提供了一种清洁单元组件，包括清洁单元支架，该清洁单元支架包括第一支架层；第二支架层，第二支架层连接在第一支架层靠近待清洁表面的一侧，第一支架层的硬度大于第二支架层。也就是说，本技术实施例在硬度较高的第一支架层的底部设置硬度较低的第二支架层。当清洁单元组件抵压在待清洁表面上时，第二支架层的底部与待清洁表面接触。由于第二支架层的硬度较低，因此，清洁单元组件与待清洁表面的接触面更平整，进而可以提高对待清洁表面的清洁效果。另外，当清洁单元组件兼具密封功能时，该清洁单元组件还可以提高对密封空间的密封效果，降低表面清洁装置的功耗和噪音。
44.需要指出的是，本技术实施例提供的清洁单元组件既可以应用于图1和图2所示的表面清洁装置，又可以应用于图3所示的表面清洁装置，本技术实施例对表面清洁装置的产品形态不作限制。
45.参见图4，为本技术实施例提供的一种表面清洁装置的立体结构示意图；参见图5，为本技术实施例提供的另一种表面清洁装置的立体结构示意图。为了便于说明，在表面清洁装置上定义上下方向。其中，下方是指靠近待清洁表面的方向，上方是指远离待清洁表面的方向。在一些可能的实现方式中，“上方”也可能称为“顶部”，“下方”也可能称为“底部”，本技术实施例对此不作具体限制。
46.如图4并结合图5所示，该表面清洁装置300包括外壳310，在外壳310的底部设有两个清洁单元组件320。需要指出的是，该表面清洁装置300的工作原理与图1和图2所示的表面清洁装置100的工作原理相似，即在外壳310内部还设有第一主机和第二主机，上述两个清洁单元组件320分别设置在第一主机和第二主机的底部。当第一主机和第二主机转动时，带动设置在第一主机和第二主机底部的清洁单元组件320转动，进而实现对待清洁表面的清洁。该表面清洁装置300的工作原理可以参见上述图1和图2所示实现方式的描述，为了表述简洁，在此不再赘述。下面重点对清洁单元组件320进行说明。
47.参见图6，为本技术实施例提供的一种清洁单元组件的立体结构示意图；参见图7，为图6所示清洁单元组件的截面图。如图6并结合图7所述，该清洁单元组件320包括第一支架层321和第二支架层322，第二支架层322连接在第一支架层321靠近待清洁表面的一侧，第一支架层321的硬度大于第二支架层322。示例性的，第一支架层321为塑料材质，例如，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(acrylnitrile butadiene styrene，abs)材质、玻璃纤维增强abs材质或聚碳酸酯(polycarbonate，pc)材质等。第二支架层322为橡胶材质，例如，热塑性橡胶(thermo plastic rubber，tpr)材质或丁腈橡胶(nitrile butadiene rubber，nbr)材质等。
48.在本技术实施例中，由于第二支架层322设置在第一支架层321的底部，因此，当清洁单元组件320抵压在待清洁表面上时，第二支架层322的底部与待清洁表面接触。由于第二支架层322的材质较软，因此，清洁单元组件320与待清洁表面的接触面更平整，进而可以提高对待清洁表面的清洁效果。
49.对于第一支架层321，虽然由于注塑成型工艺的缺陷，可以能会导致第一支架层321会存在变形、不平整等问题。但是，由于第一支架层321并不直接与待清洁表面接触，因
此，并不会影响清洁单元组件320与待清洁表面之间的接触面的平整性。另外，由于第一支架层321的硬度较高，将第二支架层322设置在第一支架层321的底部，可以通过第一支架层321为第二支架层322提供支撑，避免清洁单元组件320整体产生较大的弹性形变。
50.可理解，当第二支架层322直接与待清洁表面接触时，如果第二支架层322的摩擦系数较大，将会影响表面清洁装置300在待清洁表面的移动。另外，若第二支架层322的摩擦系数较小，将会影响对待清洁表面的清洁效果。因此，需要确保第二支架层322的摩擦系数满足一定的要求。
51.具体实现中，可以直接采用满足摩擦系数要求的材料制备第二支架层322；或者对第二支架层322进行相应的处理，使得第二支架层322满足上述摩擦系数的要求。示例性的，第二支架层322为橡胶层，橡胶层本身无法满足上述摩擦系数的要求，但是对橡胶层进行氯化处理后，可以使得橡胶层的摩擦系数降低50％以上，润滑程度大幅提高，表面更加细腻，满足上述摩擦系数的要求。另外，对橡胶层进行氯化处理后，还可以提高橡胶层的耐磨性，进而较大幅度地提高清洁单元组件320的使用寿命。
52.在一种可能的实现方式中，清洁单元组件320还需要兼具密封的功能，在清洁单元组件320与待清洁表面之间界定出密封空间。具体来说，表面清洁装置300的底部设有凹腔，该凹腔用于与待清洁表面之间界定出密封空间，清洁单元环绕该凹腔设置，进而可以实现对密封空间的密封。其中，当清洁单元组件320抵压在待清洁表面上时，第二支架层322的底部与待清洁表面接触。由于第二支架层322的材质较软，因此，清洁单元组件320与待清洁表面的接触面更平整，进而可以提高对密封空间的密封效果，降低表面清洁装置300的功耗和噪音。
53.可理解，清洁单元组件320的形状应当与凹腔的形状相匹配。例如，在图4-图7所示的实现方式中，表面清洁装置300底部的凹腔为圆形，清洁单元组件320为圆环状，以便清洁单元组件320环绕圆形凹腔设置。当然，在一些可能的实现方式中还可能将清洁单元组件320设置为其它形状。例如，当表面清洁装置300底部的凹腔为方形时，可以将清洁单元组件320设置为方环状以便清洁单元组件320环绕方形凹腔设置。
54.可理解，当清洁单元组件320不需要兼具密封功能时，清洁单元组件320的形状不受表面清洁装置300底部的凹腔的限制，本领域技术人员可以根据实际需要将清洁单元组件320设置为任意形状，本技术实施例对此不作具体限制。
55.在一种可能的实现方式中，清洁单元组件320中的第一支架层321和第二支架层322通过二次成型方法连接。其中，二次成型是指在一定条件下，将高分子材料一次成型所得的型材通过再次成型加工，以获得制品的最终型样的技术。在本技术实施例中，首先分别制备第一支架层321(如图8所示)和第二支架层322(如图9所示)，然后通过二次成型技术将第二支架层322包裹在第一支架层321的底部，获得图6所示的清洁单元组件320。
56.在一种可能的实现方式中，第二支架层322的底部还可以设有一清洁件，该清洁件即相当于图1和图3所示表面清洁装置中的清洁单元。具体地，该清洁件可以为抹布、海绵或擦拭纸等，本技术实施例对此不作具体限制。由于清洁件具有更好的擦拭效果，因此，在第二支架层322的底部设置清洁件后，可以提高对待清洁表面的清洁效果。
57.在一种可能的实现方式中，清洁件可以以可拆卸的方式连接在第二支架层322的底部，以便于清洁件的拆卸和更换。示例性的，第二支架层322的底部设有粘结层，清洁件通
过粘结层与第二支架层322连接。也就是说，清洁单元组件320从上向下依次为第一支架层321、第二支架层322、粘结层和清洁件。
58.在一种可能的实现方式中，当第二支架层322的底部设置清洁件时，由于第二支架层322不与待清洁表面直接接触(清洁件与待清洁表面直接接触)，因此，可以不对第二支架层322的摩擦系数进行特殊设计。换句话讲，在包含清洁件的实现方案中，第二支架层322可以不受上述摩擦系数的限制。
59.在另一种可能的实现方式中，当第二支架层322的设置清洁件时，仍然可以按照上述实施例中的要求对第二支架层322的摩擦系数进行特殊设计。其原因在于，清洁件可能与第二支架层322可拆卸连接，相应的，清洁单元组件320具有包含清洁件和不包含清洁件两种工作状态。在该实现方式中，无论清洁单元组件320处于哪一种工作状态，均具有较好的清洁效果。
60.另外，本技术实施例对每个表面清洁装置300设置的清洁单元组件320的数量不作限制。例如，在图4和图5所示的实现方式中，表面清洁装置300的底部设置两个清洁单元组件320。当该清洁单元组件320应用在图3所示的表面清洁装置300中时，可以仅在表面清洁装置300的底部设置一个清洁单元组件320，或者设置2个、3个或更多的清洁单元组件320，本技术实施例对此不作限制。
61.在本技术实施例中，通过第二支架层322弥补第一支架层321由于注塑成型工艺而导致的变形或不平整等缺陷，使得清洁单元组件320与待清洁表面的接触面更平整，进而可以提高对待清洁表面的清洁效果。当清洁单元组件320兼具密封功能时，该清洁单元组件320还可以提高对密封空间的密封效果，降低表面清洁装置300的功耗和噪音。
62.需要指出的是，本技术实施例涉及的表面清洁装置300可以用于非水平面和水平面的清洁。当用于非水平面的清洁时，由于存在负压机构(真空单元以及与真空单元配合的气流通道和凹腔等)，使得表面清洁装置300可以吸附在非水平面上。例如，有框窗户和无框窗户的清洁、墙面的清洁等。在一种可能的实现方式中，该表面清洁装置300可以为擦窗机器人。当用于水平面的清洁时，由于存在负压机构，能够增大表面清洁装置300与水平面之间的压力，进而增大清洁单元与水平面之间的摩擦力，提高清洁效果。
63.需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
64.以上所述仅是本技术的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
65.本说明书中各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。尤其，对于终端实施
例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例中的说明即可。
66.以上所述的本技术实施方式并不构成对本技术保护范围的限定。