显示器基板以及显示器的制作方法

1.本发明涉及半导体显示与照明领域，尤其涉及一种显示器基板以及显示器。


背景技术：

2.随着led显色技术的不断发展，高清、高亮、高分辨率以及高对比度成为新一代显色领域的迫切需求。通过优化led工艺结构层，在led芯片发光正面添加不同层厚组合的dbr使其达到不同程度的正面遮光，可以调整led显示器的亮度。由于led是电流驱动的器件，亮度与驱动电流之间的关系并非绝对线性。因此如何迅速准确的调节led显示器在不同区域的亮度，达到强调主体图像显示的目的，是现有技术需要解决的问题。


技术实现要素：

3.本发明所要解决的技术问题是，提供一种显示器基板以及显示器，能够迅速准确的调节led显示器在不同区域的亮度，达到强调主体图像显示的技术效果。
4.为了解决上述问题，本发明提供了一种显示器基板，包括发光层，以及发光层表面的遮光层：所述发光层内设置发光点的阵列；所述遮光层包括一亮度调节单元，所述亮度调节单元包括第一遮光罩和第二遮光罩，所述第一遮光罩和第二遮光罩具有不同的遮光率，所述第一遮光罩和第二遮光罩设置在与不同的发光点相对应的位置。
5.可选的，所述遮光层包括由所述亮度调节单元形成的阵列。
6.可选的，所述亮度调节单元包括第一遮光罩、第二遮光罩、以及第三遮光罩，所述第一遮光罩、第二遮光罩、以及第三遮光罩具有不同的遮光率。所述第一遮光罩、第二遮光罩、以及第三遮光罩的遮光率分别是10％、20％、以及30％。
7.可选的，任一所述遮光罩的图形独立的选自于圆形、椭圆、矩形、多边形中的任意一种。
8.可选的，所述发光点为led光源、迷你led光源、以及微led光源中的任意一种或其组合。
9.可选的，所述遮光罩为分布反射层的多层堆叠结构，并对应不同的遮光率设置不同层数的分布反射层。所述分布反射层为氧化钛/氧化硅交替堆叠形成。
10.为了解决上述问题，本发明提供了一种显示器，包括基板，所述基板包括发光层，以及发光层表面的遮光层：所述发光层内设置发光点的阵列；所述遮光层包括一亮度调节单元，所述亮度调节单元包括第一遮光罩和第二遮光罩，所述第一遮光罩和第二遮光罩具有不同的遮光率，所述第一遮光罩和第二遮光罩设置在与不同的发光点相对应的位置。
11.上述技术方案在发光基板上通过调配布置不同遮光效果的遮光层以达到一种新的显色技术，这样的显色技术可以通过点亮不同遮光率对应的发光点，达到迅速准确的加强显色屏幕上主体物体的显色亮度，而削弱非主体物象的显色亮度的目的，从而实现更加鲜明对比地衬托出荧屏上主体物象的显色效果，提升观众的欣赏效果。
附图说明
12.附图1a和附图1b所示是本发明所述显示器基板具体实施方式的结构示意图，其中附图1a为俯视图，附图1b为沿着aa方向的剖面图。
13.附图2a和附图2b所示是本发明所述显示器基板具体实施方式的结构示意图，其中附图2a为俯视图，附图2b为沿着aa方向的剖面图。
14.附图3所示是本发明所述显示器基板具体实施方式的结构示意图。
15.附图4所示是本发明所述显示器基板具体实施方式的中分布反射层的结构示意图。
具体实施方式
16.下面结合附图对本发明提供的显示器基板以及显示器的具体实施方式做详细说明。
17.以下结合附图给出本发明所述显示器基板具体实施方式。附图1a和附图1b所示是本具体实施方式的结构示意图，其中附图1a为俯视图，附图1b为沿着aa方向的剖面图。参考附图1a所示，所述显示器基板10包括发光层11，以及发光层11表面的遮光层12。在附图1a中，发光层11和遮光层12相互重合，其位置关系参见图1b。所述遮光层12包括亮度调节单元124形成的阵列。继续参考附图1b，可见所述发光层11内设置发光点113的阵列。所述发光点113为led光源。在其他的具体实施方式中，发光点113也可以是迷你led(mini-led)光源、以及微led(micro-led)光源。并且每个发光点都可以各自独立的选自于led光源、迷你led(mini-led)光源、以及微led(micro-led)光源中的一种。上述的基板可以应用于任意的显示器上。
18.在本具体实施方式中，所述遮光层12内的亮度调节单元124包括第一遮光罩124a和第二遮光罩124b，所述第一遮光罩124a和第二遮光罩124b具有不同的遮光率，所述第一遮光罩124a和第二遮光罩124b设置在与不同的发光点113相对应的位置。在本具体实施方式中，所述第一遮光罩124a和第二遮光罩124b的形状为矩形，且遮光率分别是10％和20％。上述结构在发光基板上通过调配布置不同遮光效果的遮光层以达到一种新的显色技术，这样的显色技术可以通过点亮不同遮光率对应的发光点，达到迅速准确的加强显色屏幕上主体物体的显色亮度，而削弱非主体物象的显色亮度的目的，从而实现更加鲜明对比地衬托出荧屏上主体物象的显色效果，提升观众的欣赏效果。
19.上述的遮光结构可以采用分布反射层的多层堆叠结构，例如氧化钛/氧化硅交替堆叠形成，如附图4所示。并根据并对应不同的遮光率设置不同层数的分布反射层，分布反射层的层数越多，对应的遮光率越高。采用分布反射层的有点在于可以通过控制反射层的层数，精准控制遮光率，此方法通过控制反射层的层数即可实现遮光效果，更容易实现，该方案与其他的通过控制遮光结构的开口大小不同控制出光多少，或控制点亮或不点亮来实现不同区域的亮度均不同。控制遮光结构的开口大小时，结构较为复杂，尤其是涉及到微led时，每个显示面板上具有大量的发光点，每个遮光结构的开口大小很难控制，容易造成显色不均匀；而通过控制点亮和不点亮来实现不同区域的亮度时，在显示面板的不同的区域上只有完全亮和完全不亮两种状态，对提高显色亮度不利，并不能突出物象的显色效果。在其他的具体实施方式中，也可以采用其他材料例如氧化钛/氮化硅等形成分布反射层，或
者直接采用吸光材料形成遮光层。
20.以下结合附图给出本发明所述显示器基板具体实施方式。附图2a和附图2b所示是本具体实施方式的结构示意图，其中附图2a为俯视图，附图2b为沿着aa方向的剖面图。参考附图2a所示，所述显示器基板20包括发光层21，以及发光层21表面的遮光层22。在附图2a中，发光层21和遮光层22相互重合，其位置关系参见图1b。所述遮光层22包括亮度调节单元224形成的阵列。继续参考附图1b，可见所述发光层21内设置发光点213的阵列。所述发光点113中的每个都独立的选自于led光源、迷你led(mini-led)光源、以及微led(micro-led)光源中的一种。
21.在本具体实施方式中，所述遮光层22内的亮度调节单元224包括第一遮光罩224a、第二遮光罩224b、以及第三遮光罩224c，所述第一遮光罩224a、第二遮光罩224b、以及第三遮光罩224c具有不同的遮光率，所述第一遮光罩224a、第二遮光罩224b、以及第三遮光罩224c设置在与不同的发光点113相对应的位置。在本具体实施方式中，所述第一遮光罩224a、第二遮光罩224b、以及第三遮光罩224c的遮光率分别是10％、20％和30％。遮光结构可以采用分布反射层的多层堆叠结构，例如氧化钛/氧化硅交替堆叠形成。通过设置三个或者更多层级的遮光罩，可以进一步丰富亮度调节效果。通过点亮一个或者多个遮光率的遮光罩对应的发光点，经过排列组合可以获得多层级多梯度的丰富的亮度调节效果。
22.以下结合附图给出本发明所述显示器基板具体实施方式。附图3所示是本具体实施方式的结构示意图。参考附图3，所述显示器基板30包括发光层31，以及发光层31表面的遮光层32，所述遮光层22包括亮度调节单元324形成的阵列。所述遮光层32内的亮度调节单元324包括第一遮光罩324a、第二遮光罩324b、以及第三遮光罩324c，所述第一遮光罩324a、第二遮光罩324b、以及第三遮光罩324c具有不同的遮光率。在本具体实施方式中，遮光罩的图形为圆形。在其他的具体实施方式中，所述遮光罩中的每一个的形状都各自独立的选自于圆形、椭圆、矩形、多边形中的任意一种。
23.以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。