专利名称：类似绒面底纹的雕刻品的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及工艺品，尤其涉及一种类似绒面底纹的雕刻品。
背景技术：
传统的雕刻品是在石材、木材和竹材等基材上雕刻文字或/和图案，其雕刻的方式现在广泛采用激光雕刻方法，背景就是基材表面固有的痕迹，表现手法很单一。
发明内容
本实用新型的目的是为了解决上述背景技术存在的不足，提出一种表现手法更为丰富，背景图案更为美观的类似绒面底纹的雕刻品。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案一种类似绒面底纹的雕刻品，该雕刻品包括基材，基材上雕刻有文字或/和图案，其特征是所述文字和图案的周围设有绒面底纹，该绒面底纹由不规则分布的凹坑或颗粒构成，凹坑的深度或颗粒的高度为0.1-1mm，凹坑或颗粒的最大直径为0.1-0.5mm，凹坑或颗粒的密度为100-1000个/cm2。
上述基材可采用石材、木材或竹材。
本实用新型由于采用独特的背景图案，因此它更能凸显雕刻品上的文字和图案，并衬托它们，使雕刻品上的文字和图案更丰满，美观。该绒面底纹能消除或弱化基材表面天然存在的缺陷，使人们可以充分利用竹材、石材、木材等天然基材进行艺术创作。
图1是本实用新型主视图。
具体实施方式
参照图1和图2，本实用新型所述雕刻品上包括基材1，基材1上雕刻有文字或图案2，所述文字或图案的周围设有绒面底纹，该绒面底纹由不规则分布的凹坑或颗粒3构成，凹坑的深度或颗粒的高度为0.1-1mm，凹坑或颗粒3的最大直径为0.1-0.5mm，凹坑或颗粒3的密度为100-1000个/cm2。所述基材为竹材、石材或木材。
权利要求1.一种类似绒面底纹的雕刻品，该雕刻品包括基材，基材上雕刻有文字或/和图案，其特征是所述文字和图案的周围设有绒面底纹，该绒面底纹由不规则分布的凹坑或颗粒构成，凹坑的深度或颗粒的高度为0.1-1mm，凹坑或颗粒的最大为0.1-0.5mm，凹坑或颗粒的密度为100-1000个/cm2。
2.按照权利要求1所述带绒面底纹的雕刻品，其特征是所述基材为竹材、石材或木材。
专利摘要一种类似绒面底纹的雕刻品，该雕刻品包括基材，基材上雕刻有文字或/和图案，所述文字和图案的周围设有绒面底纹，该绒面底纹由不规则分布的凹坑或颗粒构成，凹坑的深度或颗粒的高度为0.1－1mm，凹坑或颗粒的最大直径为0.1－0.5mm，凹坑或颗粒的密度为100－1000个/cm
文档编号B44C1/00GK2693494SQ20042001729
公开日2005年4月20日 申请日期2004年3月1日 优先权日2004年3月1日
发明者张成伟, 周诗娟 申请人:武汉楚天激光(集团)股份有限公司