一种便调节式水晶内雕机的制作方法

本实用新型涉及水晶工艺品技术领域，具体为一种便调节式水晶内雕机。

背景技术：

水晶内雕机是通过三维相机拍摄形成的三维图像进行电脑三维软件处理以后经过数据输出给水晶内雕机，雕刻生产水晶内雕饰品，控制发射激光束并使焦点集聚在玻璃材料内部的指定位置，焦点处极高能量密度的激光使材料发生局部爆炸白色产生微点，根据三维数据移动激光焦点位置，便可在玻璃材料或者水晶制品中加工出个人的三维头像画纪念品，水晶制品的意义在于保存和纪念，真正这个理念诞生水晶市场的火爆，水晶制品冲刺着国内国际工艺品市场，现有的便调节式水晶内雕机不具备前后左右移动调节的功能，定位效果差，雕刻精确度很低，便捷性较差，不能够有效的处理加工尘屑。

目前，现有的便调节式水晶内雕机，使用不便，不利于推广使用。

技术实现要素：

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种便调节式水晶内雕机，解决了现有的便调节式水晶内雕机不具备前后左右移动调节的功能，定位效果差，雕刻精确度很低，便捷性较差和不能够处理加工尘屑的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种便调节式水晶内雕机，包括底座，所述底座的底部固定安装有集尘箱，所述集尘箱的底部中间固定连接有吸尘器，所述底座的顶部两侧均固定安装有吸尘挡箱，所述吸尘挡箱的底部固定连接有吸尘管道，所述底座的两侧均设置有支撑架，所述支撑架的内侧底部固定安装有滑板，所述底座的两侧顶部均固定安装有限位板，两个所述支撑架的之间顶部固定安装有滑杆，所述滑杆的下方安装有丝杆，所述支撑架的左侧固定安装有驱动电机，所述滑杆和丝杆的外表面均套接有内雕组件。

可选的，所述集尘箱的底部两侧均固定安装有顶高器，所述顶高器的底部固定连接有轮子，所述吸尘管道贯穿底座的内部，所述吸尘管道的底端与集尘箱的一侧固定连接。

可选的，所述支撑架的外侧底部固定安装有螺栓，所述滑板通过螺栓与支撑架固定连接。

可选的，所述底座的两侧均开设有滑槽，所述滑板与滑槽配合设置，所述滑板与滑槽滑动连接。

可选的，所述限位板的底部固定安装有液压伸缩器，所述液压伸缩器的底端固定连接有活动杆，所述活动杆的底端与支撑架固定连接。

可选的，所述丝杆转动安装在两个支撑架的之间，所述驱动电机的一侧中部与丝杆的左端固定连接，所述内雕组件与滑杆滑动连接，所述内雕组件与丝杆螺纹连接，所述内雕组件的两侧底部均固定安装有摄像头。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种便调节式水晶内雕机，具备以下有益效果：

(1)、该便调节式水晶内雕机，一方面通过吸尘挡箱，大大减少了尘屑经过空气的距离，降低了尘屑飘散在空气中的可能性，防止了空气中的尘屑分布量增多，避免了尘屑影响内雕机工作，提高了工作效率，同时降低了激光在空气内的反射量和折射量，提高了雕刻精度，另一方面通过设置集尘箱，防止尘屑造成环境污染，实现了环保加工，间接消除了尘屑对工作人员身体健康造成伤害，有利于集中处理，保证了工作环境的整洁性，其次通过设置螺栓，便于水晶内雕机的安装和拆卸，有利于后期的维护和保养，延长了使用期限，降低了使用成本，提高了水晶内雕机的便捷性和实用性。

(2)、该便调节式水晶内雕机，一方面通过设置滑板，提高了连接的紧密性，实现了内雕机前后移动调节的功能，并且定位精准，保证了水晶内雕机高效的性能，另一方面通过设置滑杆和丝杆，由于设计结构的特殊性和新颖性，导向效果好，实现了水晶内雕机左右移动调节的功能，避免了水晶介质的移动，保证了定位的快速性，可以快速投入生产，其次通过设置摄像头，便于采集内雕组件的加工行程和轨迹，进而有利于内雕机重新设计雕刻行程进行自动修正，进一步提高了雕刻精度，增大了水晶内雕机的适用范围。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型液压伸缩器结构示意图；

图3为本实用新型吸尘挡箱结构示意图。

图中：底座1、集尘箱2、顶高器3、轮子4、吸尘器5、吸尘挡箱6、吸尘管道7、滑槽8、滑板9、支撑架10、螺栓11、限位板12、液压伸缩器13、活动杆14、滑杆15、丝杆16、驱动电机17、内雕组件18、摄像头19。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种便调节式水晶内雕机，包括底座1，底座1的底部固定安装有集尘箱2，集尘箱2的底部中间固定连接有吸尘器5，底座1的顶部两侧均固定安装有吸尘挡箱6，通过吸尘挡箱6，大大减少了尘屑经过空气的距离，降低了尘屑飘散在空气中的可能性，防止了空气中的尘屑分布量增多，避免了尘屑影响内雕机工作，提高了工作效率，同时降低了激光在空气内的反射量和折射量，提高了雕刻精度，吸尘挡箱6的底部固定连接有吸尘管道7，底座1的两侧均设置有支撑架10，支撑架10的内侧底部固定安装有滑板9，底座1的两侧顶部均固定安装有限位板12，两个支撑架10的之间顶部固定安装有滑杆15，滑杆15的下方安装有丝杆16，支撑架10的左侧固定安装有驱动电机17，滑杆15和丝杆16的外表面均套接有内雕组件18。

作为本实用新型的一种可选技术方案：集尘箱2的底部两侧均固定安装有顶高器3，顶高器3的底部固定连接有轮子4，吸尘管道7贯穿底座1的内部，吸尘管道7的底端与集尘箱2的一侧固定连接，通过设置集尘箱2，防止尘屑造成环境污染，实现了环保加工，间接消除了尘屑对工作人员身体健康造成伤害，有利于集中处理，保证了工作环境的整洁性。

作为本实用新型的一种可选技术方案：支撑架10的外侧底部固定安装有螺栓11，滑板9通过螺栓11与支撑架10固定连接，通过设置螺栓11，便于水晶内雕机的安装和拆卸，有利于后期的维护和保养，延长了使用期限，降低了使用成本，提高了水晶内雕机的便捷性和实用性。

作为本实用新型的一种可选技术方案：底座1的两侧均开设有滑槽8，滑板9与滑槽8配合设置，滑板9与滑槽8滑动连接，通过设置滑板9，提高了连接的紧密性，实现了内雕机前后移动调节的功能，并且定位精准，保证了水晶内雕机高效的性能。

作为本实用新型的一种可选技术方案：限位板12的底部固定安装有液压伸缩器13，液压伸缩器13的底端固定连接有活动杆14，活动杆14的底端与支撑架10固定连接。

作为本实用新型的一种可选技术方案：丝杆16转动安装在两个支撑架10的之间，驱动电机17的一侧中部与丝杆16的左端固定连接，内雕组件18与滑杆15滑动连接，内雕组件18与丝杆16螺纹连接，通过设置滑杆15和丝杆16，由于设计结构的特殊性和新颖性，导向效果好，实现了水晶内雕机左右移动调节的功能，避免了水晶介质的移动，保证了定位的快速性，可以快速投入生产，内雕组件18的两侧底部均固定安装有摄像头19，通过设置摄像头19，便于采集内雕组件18的加工行程和轨迹，进而有利于内雕机重新设计雕刻行程进行自动修正，进一步提高了雕刻精度，增大了水晶内雕机的适用范围。

该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接，并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。

综上所述，该便调节式水晶内雕机，在使用的情况下，一方面通过吸尘挡箱6，大大减少了尘屑经过空气的距离，降低了尘屑飘散在空气中的可能性，防止了空气中的尘屑分布量增多，避免了尘屑影响内雕机工作，提高了工作效率，同时降低了激光在空气内的反射量和折射量，提高了雕刻精度，另一方面通过设置集尘箱2，防止尘屑造成环境污染，实现了环保加工，间接消除了尘屑对工作人员身体健康造成伤害，有利于集中处理，保证了工作环境的整洁性，其次通过设置螺栓11，便于水晶内雕机的安装和拆卸，有利于后期的维护和保养，延长了使用期限，降低了使用成本，提高了水晶内雕机的便捷性和实用性，一方面通过设置滑板9，提高了连接的紧密性，实现了内雕机前后移动调节的功能，并且定位精准，保证了水晶内雕机高效的性能，另一方面通过设置滑杆15和丝杆16，由于设计结构的特殊性和新颖性，导向效果好，实现了水晶内雕机左右移动调节的功能，避免了水晶介质的移动，保证了定位的快速性，可以快速投入生产，其次通过设置摄像头19，便于采集内雕组件18的加工行程和轨迹，进而有利于内雕机重新设计雕刻行程进行自动修正，进一步提高了雕刻精度，增大了水晶内雕机的适用范围。

需要说明的是，在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。