专利名称：曝光机曝光基台的回位机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种回位机构，特别是涉及一种适用于曝光机曝光基 台的回《立才几构。
背景技术：
请参阅图1，其为现有曝光机的立体图，于图式中显示有一传统的曝光机9，此曝光机9包括一曝光基台91，且此曝光基台91包括一曝光平台911 及一曝光上盖912,于使用时，使欲进行曝光的电路板(图未示)放置于曝光 平台911上，并将吸附有底片(图未示)的曝光上盖912对应向下盖合于曝 光平台911,并使曝光平台911吸附于曝光上盖912,之后，再使整个曝光 基台91进入内部的曝光室(图未示)并进行曝光作业，借以将底片上的图案 (例如线路)借由曝光程序复制到电路板上。于上述的曝光作业过程中，曝光基台91不断来回并更换不同的电路板， 以将底片上的图案借由曝光程序复制到多个电路板上。然而，于进行每一 次的曝光作业时，皆需有所谓的回位装置以使曝光基台91上的底片与电路 板可位于相对正确位置，如此于重复进行曝光作业时，才不会因位置的误 差而使底片上的图案无法正确复制到电路板上，但是每次回位都需要再次 校正与调整，因为曝光的片数增加，同样的会拉长生产的时间，造成产能 的下滑，造成生产上极大的困扰。请同时参阅图1、图2及图3，其中的图2为图l曝光机曝光基台的剖 面图，图3为图1曝光机曝光基台的俯视图，于图式中显示传统曝光基台 91的对位方式利用一升降平台92往上推升曝光平台911，并再利用多个CCD 摄影机(图未示)针对曝光平台911上对位孔进行影像撷取，然后针对所撷 取的影像进行比对，例如撷取圆形孔的影像而以同心圆的方式进行比对，借 以得知曝光平台911是否位于正确位置。然而，如上所述，传统的对位方式利用升降平台92往上推升曝光平台 911,但于每次往上推升去承接的过程之中，在下降过程中都会需要调整对 准并归回起始位置，在回位过程中浪费太多的时间在回位的校正，为了能 让曝光平台911都能回到起始位置，目的是不会因为没有归位而造成下次 曝光对位的误差，再者因为震动等因素会使曝光平台911产生微量的位移 误差，当位移误差不断累积之下，后续的曝光作业便会产生极大的位移误 差。此外，当曝光平台911脱离曝光上盖912的吸附而向下回落至升降平 台92时，因为无緩冲结构的设计，相对会使曝光平台911于向下回落时产 生较大的震动，且并会因此使上述的位移误差问题变得更为严重，甚至会 因为震动而造成曝光平台911的损害。此外，上述传统的对位方式利用CCD摄影机以进行回位的方式，于成 本上亦较为耗费，实非十分理想。由此可见，上述现有的曝光机曝光基台的回位机构在结构与使用上，显 然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问 题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的 设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然 是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的曝光机曝光基台 的回位机构，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目 标。有鉴于上述现有的曝光机曝光基台的回位机构存在的缺陷，本发明人 基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理 的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型的曝光机曝光基台的回位 机构，能够改进一般现有的曝光机曝光基台的回位机构，使其更具有实用 性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确 具实用价值的本实用新型。发明内容本实用新型的主要目的在于，克服现有的曝光机曝光基台的回位机构 存在的缺陷，而提供一种新型的曝光机曝光基台的回位机构，所要解决的 技术问题是使其可轻易地完成自动回位，缩短曝光作业的时间与并提高产 能，非常适于实用。本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现 的。依据本实用新型提出的一种曝光机曝光基台的回位机构，搭配一曝光 才几使用，该曝光才几包括一曝光基台及一动力源，该动力源位于该曝光基台 下方并包括一承载部，该曝光基台包括一曝光平台及一曝光上盖，该曝光上盖对应向下盖合于该曝光平台，且该曝光平台包括一下表面；其中，该回位机构包括两个以上的回位装置，且每一回位装置包括 一上导引块，设置于该曝光平台的该下表面，且该上导引块向下形成有一斜导引面，该上导引块并上下贯设有一贯孔，该贯孔并对应连通该下表面； 一下导引块，组 设于该动力源的该承载部，且该下导引块向上形成有另一斜导引面，该另 一斜导引面并对应嵌合于该上导引块的该斜导引面；以及一緩冲件，包括 一基座、 一杆体、 一顶抵块及一弹性件，该基座组设于该下导引块，该杆体由该基座延伸并容置于该上导引块的该贯孔内，该弹性件组设于该杆体，该 上下伸缩。本实用新型的目的及解决其技术问题还可以可采用以下的技术措施来 进一步实现。前述的爆光机曝光基台的回位机构，其中所述的緩沖件的该弹性件为 一伸缩弹簧。前述的曝光冲儿曝光基台的回位机构，其中所述的动力源为 一气压缸。 本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技 术方案，本实用新型曝光机曝光基台的回位机构至少具有下列优点及有益效果可利用上导引块的斜导引面与下导引块的另一斜导引面互相对应嵌 合，即可轻易地完成自动回位功能，将可以大幅减少回位过程中的时间，亦 可增加曝光作业的产能。此外，借由緩沖件的设计，可緩冲曝光平台回落的冲击力，亦即曝光 平台不会因震动而产生位移误差，且可以避免曝光平台因震动而发生损害 的问题。再者，利用上述的回位机构，也可以降低曝光机台成本，相对可增加 产品的竟争力。本实用新型具有上述诸多优点及实用价值，其不论在产品结构或功能 上皆有较大改进，在技术上有显著的进步，并产生了好用及实用的效果，且 较现有的曝光机曝光基台的回位机构具有增进的突出功效，从而更加适于 实用，诚为一新颖、进步、实用的新设计。上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实 用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用 新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施 例，并配合附图，详细说明如下。
图1是现有曝光机的立体图。图2是图1曝光机曝光基台的剖面图。图3是图1曝光机曝光基台的俯视图。图4是本实用新型一较佳实施例的曝光基台的剖面图。图5是本实用新型一较佳实施例的曝光基台的4喿作示意图。主要元件符号说明I'-曝光机ll曝光基台111:曝光平台112:曝光上盖13动力源131:承载部2:回位装置3:上导引块31斜导引面32贯孔4:下导引块41另一斜导引面51基座52杆体53顶抵块54弹性件9:曝光机91曝光基台910:才交正回卩立结构911:曝光平台912:曝光上盖92升降平台说明书第4/5页具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定发明目的所采取的技术手段及 功效，
以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的曝光机曝光基 台的回位机构其具体实施方式
、结构、特征及其功效，详细说明如后。请先参阅图1,本实用新型的曝光机曝光基台的回位机构搭配一曝光机 1 (如同图1所示的曝光机)使用。请同时参阅图l及图4，其中的图4为本实用新型一较佳实施例的曝光 基台的剖面图，上述的曝光机l包括一曝光基台11以及一动力源13，其中 的动力源13位于曝光基台11下方，且此动力源13包括一承载部131,同 时于本实施例中，此动力源13为一气压缸。此外，曝光机1的曝光基台11包括一曝光平台111以及一曝光上盖112, 其中的曝光上盖112对应向下盖合于曝光平台lll，且曝光平台lll会对应 吸附于曝光上盖112，同时，此曝光平台111包括一下表面。另外，上述的回位机构包括多个回位装置2(每一回位装置2的位置可 参阅图3的校正回位结构910位置，亦即每一回位装置2可组设于原本传 统设置校正回位结构910的位置处，因此在本实施例中是以四个回位装置2 来加以实施)，且每一回位装置2包括一上导引块3、 一下导引块4以及一 缓冲件。图式中的上导引块3设置于曝光平台111的下表面，且上导引块3向 下形成有一斜导引面31,上导引块3并上下贯设有一贯孔32,此贯孔32 并对应连通曝光平台111的下表面。此外，图式中的下导引块4组设于动力源13的承载部131，且下导引 块4向上形成有另一斜导引面41，此另一斜导引面41并对应嵌合于上导引 块3的斜导引面31。再者，图式中的緩冲件包括一基座51、 一杆体52、 一顶抵块5 3以及 一弹性件54,其中，基座51组设于下导引块4，杆体52由基座51延伸并 容置于上导引块3的贯孔32内，弹性件54组设于杆体52,顶抵块53滑设 于杆体52并以弹性件54的弹性力相对于曝光平台111的下表面上下伸缩。 于本实施例中，上迷緩冲件5的弹性件54为一伸缩弹簧。请同时参阅图1、图4及图5,其中的图5为本实用新型一较佳实施例 的曝光基台的操作示意图，当曝光机1完成每一次曝光作业时，曝光上盖 112会解除对曝光平台111的吸附，使得曝光平台lll会因为自身的重力而 向下掉落，此时，借由上导引块3的斜导引面31与下导引块4的另一斜导 引面41的互相对应嵌合，亦即上导引块3的斜导引面31与下导引块4的另 一斜导引面41会因斜面的设计而互相导引嵌合,使得曝光平台111可轻易 地完成自动对位功能，而不会使曝光平台111产生位移误差累积的问题，故 如此的设计除了可缩短曝光作业时间外，亦可增加曝光作业的产品良率。此外，借由上述緩沖件的设计，可借以緩冲曝光平台111回落的冲击 力，如图5所示，亦即曝光平台111不会因震动而产生位移误差，且可以 避免曝光平台111因震动而发生损害的问题。再者，利用上述的回位机构，亦可大幅降低成本，相对可增加产品的 竟争力。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作 任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非 用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技 术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同 变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实 用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均 仍属于本实用新型技术方案的范围内。权利要求1、一种曝光机曝光基台的回位机构，其特征在于搭配一曝光机使用，该曝光机包括一曝光基台及一动力源，该动力源位于该曝光基台下方并包括一承载部，该曝光基台包括一曝光平台及一曝光上盖，该曝光上盖对应向下盖合于该曝光平台，且该曝光平台包括一下表面；其中，该回位机构包括两个以上的回位装置，且每一回位装置包括一上导引块，设置于该曝光平台的该下表面，且该上导引块向下形成有一斜导引面，该上导引块并上下贯设有一贯孔，该贯孔并对应连通该下表面；一下导引块，组设于该动力源的该承载部，且该下导引块向上形成有另一斜导引面，该另一斜导引面并对应嵌合于该上导引块的该斜导引面；以及一缓冲件，包括一基座、一杆体、一顶抵块及一弹性件，该基座组设于该下导引块，该杆体由该基座延伸并容置于该上导引块的该贯孔内，该弹性件组设于该杆体，该顶抵块滑设于该杆体并以该弹性件的弹性力相对于该曝光平台的该下表面上下伸缩。
2、 根据权利要求1所述的曝光机曝光基台的回位机构，其特征在于其 中所述的緩沖件的该弹性件为 一 伸缩弹簧。
3、 根据权利要求1所述的曝光机曝光基台的回位机构，其特征在于其 中所述的动力源为一气压缸。
专利摘要本实用新型是有关于一种曝光机曝光基台的回位机构，利用设置于曝光平台的上导引块的斜导引面、与组设于动力源的下导引块的另一斜导引面的互相对应嵌合，即可轻易地完成自动回位功能，如此可缩短曝光作业的时间与并提高产能。此外，借由缓冲件的设计，可缓冲曝光平台回落的冲击力，亦即曝光平台不会因震动而产生位移误差，且可以避免曝光平台因震动而发生损害的问题。再者，利用上述的回位机构，亦可降低成本，相对可增加产品的竞争力。
文档编号G03F7/20GK201170838SQ200820003790
公开日2008年12月24日 申请日期2008年2月19日 优先权日2008年2月19日
发明者张鸿明 申请人:川宝科技股份有限公司