一种浸没式光刻机的加热器装置的制作方法

1.本实用新型涉及光刻机技术领域，具体为一种浸没式光刻机的加热器装置。


背景技术：

2.光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻是集成电路中最重要的工艺，光刻机是制造芯片的核心装备，在芯片的制作中，几乎每个工艺的实施，都需要用到光刻技术。但现有的光刻机缺乏加热装置，难以消除硅片的加工硬化，降低了光刻机的工作效率，同时现有的光刻机难以对硅片进行全方位的刻印，实用性较差，不利于推广。为此，我们提出一种浸没式光刻机的加热器装置。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种浸没式光刻机的加热器装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种浸没式光刻机的加热器装置，包括光刻机主体，所述光刻机主体的前侧右端安装有保护门，所述光刻机主体两侧内壁的下部均转动安装有转动轴，所述光刻机主体的左侧下部安装有电机，左侧转动轴贯穿所述光刻机主体的左侧外壁并与所述电机的输出轴连接，两组所述转动轴相互靠近的一侧均设置有夹持组件，所述光刻机主体后侧内壁的上部通过螺栓安装有t型板，所述t型板的底部安装有激光镜头，所述光刻机主体顶部内壁的左侧安装有温度传感器，所述光刻机主体两侧内壁的中部均设置有加热组件，所述光刻机主体的左侧中部安装有控制面板。
5.作为优选，所述夹持组件包括u型板，所述u型板安装在所述转动轴的端部，所述u型板的顶部内侧螺纹插接有螺纹杆，所述螺纹杆的顶部安装有手轮，所述螺纹杆的底部通过轴承安装有下压板，所述下压板的底部和所述u型板的底部内侧均贴合设置有防滑垫。
6.作为优选，所述加热组件包括加热框，所述加热框安装在所述光刻机主体的内侧壁中部，所述加热框的内框壁的安装有安装座，所述安装座上安装有电加热棒。
7.作为优选，所述保护门内侧的边缘处安装有公扣，所述光刻机主体的前侧左端安装有母扣，所述公扣与所述母扣相适配。
8.作为优选，所述保护门的上部嵌设有透明观察窗，所述保护门的下部开设有通风口，所述通风口的内侧安装有防尘滤网。
9.作为优选，所述保护门外侧边缘的中部安装有把手。
10.作为优选，述光刻机主体的底部四角处均安装有底座。
11.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
12.1、本实用新型中设置有夹持组件，通过将待刻印的硅片放在两组u型板上，通过手动转动手轮带动螺纹杆向下转动，进而带动下压板向下移动，使得下压板底部和u型板底部内侧的防滑垫对硅片进行有效的固定，通过启动电机带动左侧转动轴转动，进而带动u型板
和硅片进行转动，使得硅片可以被全方位的刻印，实用性较高，有利于推广。
13.2、本实用新型中设置有加热组件，通过温度传感器实时感知光刻机主体内部的温度，通过启动电加热棒对硅片进行加热，使得光刻机主体内部的温度达到温度传感器预设的温度，有利于消除加工硬化，提高了光刻机的工作效率。
附图说明
14.图1为本实用新型结构示意图；
15.图2为本实用新型夹持组件结构示意图；
16.图3为本实用新型加热组件结构示意图。
17.图中：1、光刻机主体；2、保护门；3、转动轴；4、电机；5、夹持组件；51、u型板；52、螺纹杆；53、手轮；54、下压板；6、t型板；7、激光镜头；8、温度传感器；9、加热组件；91、加热框；92、安装座；93、电加热棒；10、控制面板；11、公扣；12、母扣；13、透明观察窗；14、通风口；15、把手；16、底座。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.实施例1：
20.请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种浸没式光刻机的加热器装置，包括光刻机主体1，光刻机主体1的前侧右端安装有保护门2，保护门2内侧的边缘处安装有公扣11，光刻机主体1的前侧左端安装有母扣12，公扣11与母扣12相适配，通过公扣11和母扣12的配合，使得保护门2在闭合时被有效的固定，保护门2外侧边缘的中部安装有把手15，把手15方便保护门2的开合。
21.本实施例中，请参阅图1和图2，光刻机主体1两侧内壁的下部均转动安装有转动轴3，光刻机主体1的左侧下部安装有电机4，左侧转动轴3贯穿光刻机主体1的左侧外壁并与电机4的输出轴连接，两组转动轴3相互靠近的一侧均设置有夹持组件5，夹持组件5包括u型板51，u型板51安装在转动轴3的端部，u型板51的顶部内侧螺纹插接有螺纹杆52，螺纹杆52的顶部安装有手轮53，螺纹杆52的底部通过轴承安装有下压板54，下压板54的底部和u型板51的底部内侧均贴合设置有防滑垫，通过将待刻印的硅片放在两组u型板51上，通过手动转动手轮53带动螺纹杆52向下转动，进而带动下压板54向下移动，使得下压板54底部和u型板51底部内侧的防滑垫对硅片进行有效的固定，通过启动电机4带动左侧转动轴3转动，进而带动u型板51和硅片进行转动，使得硅片可以被全方位的刻印，实用性较高，有利于推广。
22.本实施例中，请参阅图1和图3，光刻机主体1后侧内壁的上部通过螺栓安装有t型板6，t型板6的底部安装有激光镜头7，光刻机主体1顶部内壁的左侧安装有温度传感器8，光刻机主体1两侧内壁的中部均设置有加热组件9，加热组件9包括加热框91，加热框91安装在光刻机主体1的内侧壁中部，加热框91的内框壁的安装有安装座92，安装座92上安装有电加热棒93，通过温度传感器8实时感知光刻机主体1内部的温度，通过启动电加热棒93对硅片
进行加热，使得光刻机主体1内部的温度达到温度传感器8预设的温度，有利于消除加工硬化，提高了光刻机的工作效率。
23.本实施例中，请参阅图1和图3，光刻机主体1的左侧中部安装有控制面板10，电机4、温度传感器8和电加热棒93与控制面板10电性连接。
24.本实施例中，请参阅图1，光刻机主体1的底部四角处均安装有底座16，底座16对光刻机主体1起到良好的支撑效果。
25.实施例2：
26.请参阅图1，该实施例不同于第一个实施例的是：保护门2的上部嵌设有透明观察窗13，透明观察窗13可以实时观测光刻机主体1内部的情况，保护门2的下部开设有通风口14，通风口14起到良好的通风效果，通风口14的内侧安装有防尘滤网，防尘滤网可以避免外界的灰尘等杂质沿着通风口14进入到光刻机主体1的内部。
27.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.一种浸没式光刻机的加热器装置，包括光刻机主体(1)，其特征在于：所述光刻机主体(1)的前侧右端安装有保护门(2)，所述光刻机主体(1)两侧内壁的下部均转动安装有转动轴(3)，所述光刻机主体(1)的左侧下部安装有电机(4)，左侧转动轴(3)贯穿所述光刻机主体(1)的左侧外壁并与所述电机(4)的输出轴连接，两组所述转动轴(3)相互靠近的一侧均设置有夹持组件(5)，所述光刻机主体(1)后侧内壁的上部通过螺栓安装有t型板(6)，所述t型板(6)的底部安装有激光镜头(7)，所述光刻机主体(1)顶部内壁的左侧安装有温度传感器(8)，所述光刻机主体(1)两侧内壁的中部均设置有加热组件(9)，所述光刻机主体(1)的左侧中部安装有控制面板(10)。2.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机的加热器装置，其特征在于：所述夹持组件(5)包括u型板(51)，所述u型板(51)安装在所述转动轴(3)的端部，所述u型板(51)的顶部内侧螺纹插接有螺纹杆(52)，所述螺纹杆(52)的顶部安装有手轮(53)，所述螺纹杆(52)的底部通过轴承安装有下压板(54)，所述下压板(54)的底部和所述u型板(51)的底部内侧均贴合设置有防滑垫。3.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机的加热器装置，其特征在于：所述加热组件(9)包括加热框(91)，所述加热框(91)安装在所述光刻机主体(1)的内侧壁中部，所述加热框(91)的内框壁的安装有安装座(92)，所述安装座(92)上安装有电加热棒(93)。4.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机的加热器装置，其特征在于：所述保护门(2)内侧的边缘处安装有公扣(11)，所述光刻机主体(1)的前侧左端安装有母扣(12)，所述公扣(11)与所述母扣(12)相适配。5.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机的加热器装置，其特征在于：所述保护门(2)的上部嵌设有透明观察窗(13)，所述保护门(2)的下部开设有通风口(14)，所述通风口(14)的内侧安装有防尘滤网。6.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机的加热器装置，其特征在于：所述保护门(2)外侧边缘的中部安装有把手(15)。7.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机的加热器装置，其特征在于：所述光刻机主体(1)的底部四角处均安装有底座(16)。

技术总结
本实用新型公开了光刻机技术领域的一种浸没式光刻机的加热器装置，包括光刻机主体，光刻机主体的前侧右端安装有保护门，光刻机主体两侧内壁的下部均转动安装有转动轴，光刻机主体的左侧下部安装有电机，两组转动轴相互靠近的一侧均设置有夹持组件，光刻机主体后侧内壁的上部安装有T型板，T型板的底部安装有激光镜头，光刻机主体顶部内壁的左侧安装有温度传感器，光刻机主体两侧内壁的中部均设置有加热组件，光刻机主体的左侧中部安装有控制面板，本实用新型使得硅片可以被全方位的刻印，实用性较高，有利于推广，同时可以对硅片进行加热，有利于消除加工硬化，提高了光刻机的工作效率。率。率。


技术研发人员：何威威
受保护的技术使用者：苏州欣威晟电子科技有限公司
技术研发日：2022.01.06
技术公布日：2022/7/15