在其上形成有光屏蔽膜的波导及其制造方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种波导及其制造方法，所述波导具有形成在所述平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜，该光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，并且基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.7至1.0。

技术研发人员：金雅琳;俞在贤;朴圣恩;金俊衡
受保护的技术使用者：株式会社LG化学
技术研发日：2017.11.23
技术公布日：2019.05.21